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DE102005059367B4 - Electrolytic composition and method of depositing crack-free, corrosion-resistant and hard chromium and chromium alloy layers - Google Patents

Electrolytic composition and method of depositing crack-free, corrosion-resistant and hard chromium and chromium alloy layers Download PDF

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DE102005059367B4 DE102005059367.4A DE102005059367A DE102005059367B4 DE 102005059367 B4 DE102005059367 B4 DE 102005059367B4 DE 102005059367 A DE102005059367 A DE 102005059367A DE 102005059367 B4 DE102005059367 B4 DE 102005059367B4
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Abstract

Chromhaltige Elektrolytzusammensetzung zur Abscheidung einer Chrom- oder Chromlegierungsschicht auf einem Substrat, wenigstens aufweisend eine Mineralsäure oder ein Mineraisäuresalz, eine Chromverbindung, eine Halogensauerstoffverbindung, eine Sulfonsäure, sowie Sulfoessigsäure und/oder ein Salz dieser und/oder einen Reaktanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet.Chromium-containing electrolyte composition for the deposition of a chromium or chromium alloy layer on a substrate, at least comprising a mineral acid or a mineral acid salt, a chromium compound, a halogenated oxygen compound, a sulfonic acid and sulfoacetic acid and / or a salt thereof and / or a reactant from which sulfoacetic acid is formed.

Description

Die vorliegende Patentanmeldung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung einer rissfreien, korrosionsbeständigen und harten Chrom- oder Chromlegierungsschicht sowie einen Elektrolyten zur Abscheidung einer solchen.The present patent application relates to a method for depositing a crack-free, corrosion-resistant and hard chromium or chromium alloy layer and to an electrolyte for depositing such.

Die Beschichtung von Oberflächen mittels galvanotechnischer Verfahren nimmt seit Jahrzehnten eine führende Position im Bereich der Oberflächenveredelung ein. Hierbei können die Gründe zur Beschickung von Substratoberflächen eine Verbesserung der Oberflächeneigenschaft hinsichtlich Härte, Abrasivität oder Korrosionsbeständigkeit sein, oder auch rein ästhetisch begründet sein, um das dekorative Aussehen von Substraten gefälliger zu gestalten.The coating of surfaces by means of electroplating processes has for decades occupied a leading position in the field of surface refinement. Here, the reasons for charging substrate surfaces may be an improvement in surface property in terms of hardness, abrasiveness or corrosion resistance, or may be purely aesthetic, to make the decorative appearance of substrates more pleasing.

Gleichfalls ist es bereits lange aus dem Stand der Technik bekannt, Oberflächen mittels chromhaltiger Elektrolyten zu verchromen. Die abgeschiedenen Chromschichten weisen in Abhängigkeit des eingesetzten Elektrolyten und der Verfahrensparameter ganz unterschiedliche Eigenschaften hinsichtlich Härte, Korrosionsbeständigkeit und Glanz auf.Likewise, it has long been known from the prior art to chrome surfaces by means of chromium-containing electrolytes. Depending on the electrolyte used and the process parameters, the deposited chromium layers have very different properties with respect to hardness, corrosion resistance and gloss.

Aus dem Stand der Technik ist es bekannt, saure Chrom(VI)-haltige Elektrolytzusammensetzungen, welche darüber hinaus beispielsweise einen sulfationenhaltigen Katalysator aufweisen, zur Abscheidung von Chromschichten auf einem Basismetall einzusetzen. Die Abscheidung erfolgt galvanisch bei Temperaturen in einem Bereich zwischen 50 und 70°C. Die hierbei eingesetzte Stromdichte liegt üblicherweise in einem Bereich zwischen 30 und 50 A/dm2. Die aus dem Stand der Technik bekannte, resultierende Stromausbeute liegt im Bereich von 12 bis 16%.It is known from the state of the art to use acidic chromium (VI) -containing electrolyte compositions which, for example, also contain a sulphate-containing catalyst for depositing chromium layers on a base metal. The deposition is carried out galvanically at temperatures in a range between 50 and 70 ° C. The current density used here is usually in a range between 30 and 50 A / dm 2 . The resulting current efficiency known in the art is in the range of 12 to 16%.

Der Zusatz von Fluoridionen und Alkansulfonsäuren erlaubt, wie in DE 4302564 C2 offenbart, eine Steigerung der Stromausbeute bis auf 26%.The addition of fluoride ions and alkanesulfonic acids allowed, as in DE 4302564 C2 discloses an increase in current efficiency down to 26%.

Im Allgemeinen sind die Eigenschaften der abgeschiedenen Chromschichten insbesondere von der Abscheidegeschwindigkeit, der eingesetzten Stromdichte und der Temperatur, bei weicher abgeschieden wird, abhängig. Hierbei beeinflussen sich die einzelnen Parameter gegenseitig. So ist es z. B. bekannt bei 30°C in einem Stromdichtebereich zwischen 2 und 8 A/dm2 glänzende Chromschichten aus sulfathaltigen Elektrolyten abzuscheiden, wobei bei 40°C in vergleichbaren Elektrolyten bei Stromdichten von 3 bis 18 A/dm2, und bei 50°C sogar zwischen 6 und 28 A/dm2 glänzende Schichten erhalten werden. Dem hingegen ist die Abscheidung matter Chromschichten bei Temperaturen um 30°C in einem Bereich unter 2 A/dm2 möglich. In Abhängigkeit der Temperatur steigt die Stromdichte zur Abscheidung matter Schichten bis auf 6 A/dm2 an. Aus dem Stand der Technik bekannte Heißchromverfahren wie beispielsweise ANKOR® 1141 der Firma Enthone Inc. ermöglichen bei 70°C lediglich eine Stromausbeute von 10% bei einer erhaltenen Härte der abgeschiedenen Schicht von 700 HV 0,1. Eine Erhöhung der Stromausbeute in diesem Verfahren führt zur Rissbildung, ebenso wie die mechanische Nachbearbeitung dieser Schichten.In general, the properties of the deposited chromium layers are dependent in particular on the deposition rate, the current density used and the temperature at which deposition takes place. Here, the individual parameters influence each other. So it is z. B. known at 30 ° C in a current density range between 2 and 8 A / dm 2 shiny chrome layers of sulfate-containing electrolyte, wherein at 40 ° C in comparable electrolytes at current densities of 3 to 18 A / dm 2 , and even at 50 ° C. between 6 and 28 A / dm 2 shiny layers are obtained. In contrast, the deposition of matt chromium layers at temperatures around 30 ° C in a range below 2 A / dm 2 is possible. Depending on the temperature, the current density for depositing matt layers increases up to 6 A / dm 2 . From the prior art known hot chrome methods such as ANKOR ® 1141 Enthone Inc. only allow a current efficiency of 10% with a resulting hardness of the deposited layer of 700 HV 0.1 at 70 ° C. An increase in the current efficiency in this process leads to cracking, as well as the mechanical post-processing of these layers.

Aus dem europäischen Patent EP 0 073 568 B1 ist die Verwendung von Chrom(VI)-haltigen Beschichtungsbädern bekannt, welche durch Zugabe eines Carboxylats zu halogenidhaltigen Beschichtungsbädern bei der Abscheidung matter bis glänzender Chromschichten Stromausbeuten um 30% ermöglicht. Als Halogenidquelle dient hier Kaliumiodat.From the European patent EP 0 073 568 B1 the use of chromium (VI) -containing coating baths is known which allows by adding a carboxylate to halide coating baths in the deposition of dull to shiny chromium layers current yields by 30%. The halide source is potassium iodate.

Vor dem Hintergrund des Standes der Technik ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein geeignetes Verfahren zur Abscheidung korrosionsfester, rissfreier und harter Chrom- und Chromlegierungsschichten mit hoher Stromausbeute zur Verfügung zu stellen. Darüber hinaus ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine entsprechende chromhaltige Elektrolytzusammensetzung zur Abscheidung rissfreier, korrosionsbeständiger und harter Chrom- und Chromlegierungsschichten auf Substraten zur Verfügung zu stellen, welche die Abscheidung rissfreier Hartchromschichten bei hohen Stromausbeuten, insbesondere größer 30% und hohen Abscheidegeschwindigkeiten ermöglicht.Against the background of the prior art, it is the object of the present invention to provide a suitable method for depositing corrosion-resistant, crack-free and hard chromium and chromium alloy layers with high current efficiency. In addition, it is the object of the present invention to provide a corresponding chromium-containing electrolyte composition for depositing crack-free, corrosion-resistant and hard chromium and chromium alloy layers on substrates, which enables the deposition of crack-free hard chrome layers at high current yields, in particular greater than 30% and high deposition rates.

Gelöst wird die Aufgabe eine Elektrolytzusammensetzung, welche wenigstens eine Mineralsäure oder ein Mineralsäuresalz, eine Chromverbindung, eine Halogensauerstoffverbindung, eine Sulfonsäure, sowie Sulfoessigsäure und/oder ein Salz dieser und/oder einen Reaktanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet, aufweist.The object is achieved by an electrolyte composition which comprises at least one mineral acid or a mineral acid salt, a chromium compound, a halogenated oxygen compound, a sulfonic acid and sulfoacetic acid and / or a salt thereof and / or a reactant from which sulfoacetic acid forms.

Zur Abscheidung der funktionellen Chromschicht wird eine elektrische Spannung zwischen zu beschichtendem Substrat und einer Gegenelektrode angelegt. Hierbei kann erfindungsgemäß eine Stromdichte zwischen ungefähr 20 A/dm2 und ungefähr 150 A/dm2 eingestellt werden. For depositing the functional chromium layer, an electrical voltage is applied between the substrate to be coated and a counterelectrode. In this case, according to the invention, a current density between approximately 20 A / dm 2 and approximately 150 A / dm 2 can be set.

Das erfindungsgemäße Verfahren wird bei einer Temperatur zwischen ungefähr 20°C und ungefähr 90°C betrieben.The process of the invention is operated at a temperature between about 20 ° C and about 90 ° C.

Die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren erzielte Stromausbeute ist3 30%. Die Abscheidegeschwindigkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens ist bei einer Stromdichte von 50 A/dm2 größer als 1,3 um/min.The current efficiency achieved by the method according to the invention is 3 30%. The deposition rate of the process according to the invention is greater than 1.3 μm / min at a current density of 50 A / dm 2 .

Die aus dem erfindungsgemäßen Elektrolyten mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens abgeschiedenen Chromschichten sind hart und weisen eine Härte größer 800 HV 0,1 auf.The chromium layers deposited from the electrolyte according to the invention by means of the method according to the invention are hard and have a hardness greater than 800 HV 0.1.

Darüber hinaus sind die erfindungsgemäß abgeschiedenen Chromschichten äußerst korrosionsbeständig und weisen eine Korrosionsbeständigkeit gemäß DIN 50021 SS bei 25 um von mehr als 200 Stunden auf.In addition, the chromium layers deposited according to the invention are extremely resistant to corrosion and have a corrosion resistance according to DIN 50021 SS at 25 μm of more than 200 hours.

Aus dem erfindungsgemäßen Elektrolyten werden mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens matte, graue Chromschichten abgeschieden, welche mittels geeigneter mechanischer Bearbeitungsverfahren wie beispielsweise Schleifen oder Läppen in glänzende Chromschichten überführt werden können. Auch nach einer solchen mechanischen Bearbeitung weisen die erfindungsgemäß abgeschiedenen Schichten eine hohe Korrosionsbeständigkeit und Härte auf.By means of the method according to the invention, matt, gray chromium layers are deposited from the electrolyte according to the invention, which can be converted into lustrous chrome layers by means of suitable mechanical processing methods such as, for example, grinding or lapping. Even after such mechanical processing, the layers deposited according to the invention have a high corrosion resistance and hardness.

Die Erfindung wird anhand der in der nachfolgenden Tabelle aufgeführten Ausführungsbeispiele näher erläutert, wobei sich die Erfindung jedoch in keinster Weise auf die Ausführungsbeispiele beschränken läßt.The invention will be explained in more detail with reference to the embodiments listed in the following table, but the invention can not be limited in any way to the embodiments.

Hinsichtlich der Elektrolytzusammensetzung wird die Aufgabe durch eine chromhaltige Elektrolytzusammensetzung zur Abscheidung einer funktionellen Chrom- oder Chromlegierungsschicht auf Substraten gelöst, welche wenigstens eine Mineralsäure oder ein Mineralsäuresalz, eine Chromverbindung, eine Halogensauerstoffverbindung, eine Sulfonsäure sowie Sulfoessigsäure und/oder ein Salz dieser und/oder einen Reaktanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet, aufweist. Reaktanten können beispielsweise 3-Hydroxypropan-1-sulfonsäure, Hydroxymethansulfonsäure oder Aldehydomethansulfonsäure sein.With regard to the electrolyte composition, the object is achieved by a chromium-containing electrolyte composition for depositing a functional chromium or chromium alloy layer on substrates comprising at least one mineral acid or a mineral acid salt, a chromium compound, a halo oxygen compound, a sulfonic acid and sulfoacetic acid and / or a salt thereof and / or a Reactants, from which sulfoacetic acid forms having. Reactants may be, for example, 3-hydroxypropane-1-sulfonic acid, hydroxymethanesulfonic acid or aldehydomethanesulfonic acid.

Vorteilhafterweise enthält die erfindungsgemäße Elektrolytzusammensetzung die Sulfoessigsäure oder ein Salz dieser oder einen Reaktanten, aus dem diese sich bildet, in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,03 und ungefähr 0,3 mol/l, bevorzugt zwischen 0,05 und 0,15 mol/l, und noch bevorzugter zwischen ungefähr 0,06 und ungefähr 0,12 mol/l.Advantageously, the electrolyte composition according to the invention contains the sulfoacetic acid or a salt thereof or a reactant from which it is formed in a concentration of between about 0.03 and about 0.3 mol / l, preferably between 0.05 and 0.15 mol / l , and more preferably between about 0.06 and about 0.12 mol / l.

Als geeignete Halogensauerstoffverbindungen haben sich in der erfindungsgemäßen Elektrolytzusammensetzung insbesondere Alkali- und/oder Erdalkalihalogensauerstoffverbindungen erwiesen. Die Zusammensetzung kann die Alkali- oder Erdalkalihalogensauerstoffverbindung in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,001 und ungefähr 0,1 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 0,005 und ungefähr 0,08 mol/l, und noch bevorzugter zwischen ungefähr 0,007 und 0,03 mol/l enthalten.In particular, alkali metal and / or alkaline earth halide oxygen compounds have proved to be suitable halogenated oxygen compounds in the electrolyte composition according to the invention. The composition may contain the alkali or alkaline earth halo oxygen compound in a concentration between about 0.001 and about 0.1 mol / L, preferably between about 0.005 and about 0.08 mol / L, and more preferably between about 0.007 and 0.03 mol / L ,

Als besonders geeignete Halogensauerstoffverbindung hat sich in der erfindungsgemäßen Elektrolytzusammensetzung Kaliumiodat erwiesen.A particularly suitable halogenated oxygen compound has proved to be potassium iodate in the electrolyte composition according to the invention.

Der Zusatz von Halogensauerstoffverbindungen steigert die Stromausbeute und führt zu verbesserten Schichteigenschaften.The addition of halogenated oxygen compounds increases the current efficiency and leads to improved layer properties.

Die Elektrolytzusammensetzung weist als Mineralsäure vorteilhafterweise Schwefelsäure auf. Der pH-Wert der Elektrolytzusammensetzung liegt erfindungsgemäß in einem Bereich von pH < 1.The electrolyte composition advantageously comprises sulfuric acid as the mineral acid. The pH of the electrolyte composition according to the invention is in a range of pH <1.

Die Elektrolytzusammensetzung zur Abscheidung funktioneller Chromschichten enthält die Chromverbindung in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,5 mol/l und ungefähr 5 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 1 mol/l und ungefähr 4 mol/l, noch bevorzugter zwischen ungefähr 2 mol/l und ungefähr 3 mol/l.The electrolyte composition for depositing functional chromium layers contains the chromium compound in a concentration between about 0.5 mol / l and about 5 mol / l, preferably between about 1 mol / l and about 4 mol / l, more preferably between about 2 mol / l and about 3 mol / l.

Insbesondere Chromtrioxid hat sich als geeignete Chromverbindung in den erfindungsgemäßen Elektrolytzusammensetzungen erwiesen.In particular, chromium trioxide has proven to be a suitable chromium compound in the electrolyte compositions of the invention.

Vorteilhaft enthält die Elektrolytzusammensetzung als Sulfonsäuren wenigstens eine Mono- oder Disulfonsäure. Insbesondere geeignet ist Methansulfonsäure oder Methandisulfonsäure. Advantageously, the electrolyte composition contains at least one mono- or disulfonic acid as sulfonic acids. Particularly suitable is methanesulfonic acid or methanedisulfonic acid.

Die Sulfonsäure kann in der erfindungsgemäßen Elektrolytzusammensetzung in einer Konzentration zwischen ungefähr 0,01 mol/l und ungefähr 0,1 mol/l, bevorzugt zwischen ungefähr 0,015 mol/l und ungefähr 0,06 mol/l, noch bevorzugter zwischen ungefähr 0,02 mol/l und ungefähr 0,04 mol/l enthalten sein.The sulfonic acid may be present in the electrolyte composition of the invention at a concentration between about 0.01 mol / l and about 0.1 mol / l, preferably between about 0.015 mol / l and about 0.06 mol / l, more preferably between about 0.02 be contained mol / l and about 0.04 mol / l.

Der Zusatz einer Sulfonsäure führt zu Erhöhung der Härte der abgeschiedenen Chromschicht, ohne die Abscheidung hinsichtlich Stromausbeute oder Abscheidegeschwindigkeit zu beeinträchtigen.The addition of a sulfonic acid leads to an increase in the hardness of the deposited chromium layer, without impairing the deposition in terms of current efficiency or deposition rate.

Ausführungsbeispieleembodiments

In der nachfolgenden Tabelle sind ausgehend von einem Grundelektrolyten unterschiedliche erfindungsgemäße Elektrolyten und die aus diesen Elektrolyten unter den angegebenen erfindungsgemäßen Verfahrensparameters abgeschiedenen Schichten angegeben.In the following table, starting from a base electrolyte, different electrolytes according to the invention and the layers deposited from these electrolytes under the indicated process parameters according to the invention are indicated.

Der Grundelektrolyt weist 280 g/l Chromtrioxid und 2,8 g/l Schwefelsäure auf.The base electrolyte has 280 g / l chromium trioxide and 2.8 g / l sulfuric acid.

Alle abgeschiedenen Schichten weisen eine Härte größer 800 HV 0,1 und eine Korrosionsbeständigkeit gemäß DIN 5002165 von mehr als 200 Stunden auf. Als Basismaterial dient induktiv gehärteter CK45-Stahl.

Figure DE102005059367B4_0001
All deposited layers have a hardness greater than 800 HV 0.1 and a corrosion resistance according to DIN 5002165 of more than 200 hours. The base material is inductively hardened CK45 steel.
Figure DE102005059367B4_0001

Claims (10)

Chromhaltige Elektrolytzusammensetzung zur Abscheidung einer Chrom- oder Chromlegierungsschicht auf einem Substrat, wenigstens aufweisend eine Mineralsäure oder ein Mineraisäuresalz, eine Chromverbindung, eine Halogensauerstoffverbindung, eine Sulfonsäure, sowie Sulfoessigsäure und/oder ein Salz dieser und/oder einen Reaktanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet.A chromium-containing electrolyte composition for depositing a chromium or chromium alloy layer on a substrate, comprising at least one mineral acid or a mineral acid salt, a chromium compound, a halo oxygen compound, a sulfonic acid, and sulfoacetic acid and / or a salt thereof and / or a reactant from which sulfoacetic acid is formed. Elektrolytzusammensetzung gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrolytzusammensetzung die Sulfoessigsäure, deren Salz oder einen Reaktanten, aus dem sich Sulfoessigsäure bildet, in einer Konzentration zwischen 0,03 mol/l und 0,3 mol/l, bevorzugt zwischen 0,05 mol/l und 0,15 mol/l, und noch bevorzugter zwischen 0,06 mol/l und 0,12 mol/l enthält.Electrolyte composition according to Claim 1, characterized in that the electrolyte composition contains the sulfoacetic acid, its salt or a reactant which forms sulfoacetic acid in a concentration between 0.03 mol / l and 0.3 mol / l, preferably between 0.05 mol / l and 0.15 mol / l, and more preferably between 0.06 mol / l and 0.12 mol / l. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Halogensauerstoffverbindung eine Alkali- und/oder Erdalkalihalogensauerstoffverbindung ist.Electrolyte composition according to one or more of claims 1 and 2, characterized in that the halogenated oxygen compound is an alkali and / or alkaline earth halide oxygen compound. Elektrolytzusammensetzung gemäß Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrolytzusammensetzung die Alkali- oder Erdalkalihalogensauerstoffverbindung in einer Konzentration zwischen 0,001 mol/l und 0,1 mol/l, bevorzugt zwischen 0,005 mol/l und 0,08 mol/l, noch bevorzugter zwischen 0,007 mol/l und 0,03 mol/l aufweist.An electrolyte composition according to claim 3, characterized in that the electrolyte composition contains the alkali or alkaline earth metal halide oxygen compound in a concentration between 0.001 mol / l and 0.1 mol / l, preferably between 0.005 mol / l and 0.08 mol / l, more preferably between 0.007 mol / l and 0.03 mol / l. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrolytzusammensetzung einen pH-Wert im Bereich von pH < 1 aufweist.Electrolyte composition according to one of claims 1 to 4, characterized in that the electrolyte composition has a pH in the range of pH <1. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Zusammensetzung die Chromverbindung in einer Konzentration zwischen 0,5 mol/l und 5 mol/l, bevorzugt zwischen 1 mol/l und 4 mol/l, noch bevorzugter zwischen 2 mol/l und 3 mol/l enthält.Electrolyte composition according to one of claims 1 to 5, characterized in that the composition of the chromium compound in a concentration between 0.5 mol / l and 5 mol / l, preferably between 1 mol / l and 4 mol / l, more preferably between 2 mol / l and 3 mol / l. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Elektrolytzusammensetzung als Sulfonsäure eine Mono- oder Disulfonsäure oder ein Salz dieser aufweist.An electrolyte composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the electrolyte composition comprises, as the sulfonic acid, a mono- or disulfonic acid or a salt thereof. Elektrolytzusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Zusammensetzung die weitere Sulfonsäure oder deren Salz in einer Konzentration zwischen 0,01 mol/l und 0,1 mol/l, bevorzugt zwischen 0,015 mol/l und 0,06 mol/l, und noch bevorzugter zwischen 0,02 mol/l und 0,04 mol/l aufweist.Electrolyte composition according to one of claims 1 to 7, characterized in that the composition of the further sulfonic acid or its salt in a concentration between 0.01 mol / l and 0.1 mol / l, preferably between 0.015 mol / l and 0.06 mol / l, and more preferably between 0.02 mol / l and 0.04 mol / l. Verfahren zur Abscheidung einer Chrom- oder Chromlegierungsschicht auf einem Substrat, wobei zur Abscheidung das Substrat mit einer Elektrolytzusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8 kontaktiert wird, wobei zur Abscheidung der Chromschicht eine elektrische Spannung zwischen dem zu beschichtenden Substrat und einer Gegenelektrode angelegt wird und wobei das Verfahren bei einer Temperatur zwischen 20°C und 90°C betrieben wird.A method of depositing a chromium or chromium alloy layer on a substrate, wherein for depositing the substrate is contacted with an electrolyte composition according to any one of claims 1 to 8, wherein for depositing the chromium layer, an electrical voltage is applied between the substrate to be coated and a counter electrode and the process is operated at a temperature between 20 ° C and 90 ° C. Verfahren gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass eine Stromdichte zwischen ungefähr 20 A/dm2 bis ungefähr 150 A/dm2 eingestellt wird.A method according to claim 9, characterized in that a current density of between about 20 A / dm 2 to about 150 A / dm 2 is set.
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