CN114368919B - 淡透过色的可热加工节能low-e产品 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种淡透过色的可热加工节能LOW‑E产品，包括玻璃基板以及镀设于玻璃基板一侧表面的镀膜层，镀膜层包括玻璃基体上由内到外依次沉积的多个复合镀层、外部保护层，每一个复合镀层包括依次设置的介质层、种子层、功能层、保护层、AZO层，位于玻璃基板一侧表面的首个复合镀层的AZO层与相邻的复合镀层的介质层相邻镀设，尾个复合镀层的AZO层与外部保护层相邻镀设，功能层包括Ag层，或功能层包括Ag‑Cu‑Ag层，多个复合镀层中的至少一个功能层包括Ag‑Cu‑Ag层。本发明提供的产品将具有透过色改善作用Cu层放在Ag间，即保证了Cu作用不被保护层破坏，又能保证Cu层不被种子层氧化，还使得产品透过色更中性。
Description
技术领域
本发明属于镀膜玻璃技术领域，具体涉及一种淡透过色的可热加工节能LOW-E产品。
背景技术
作为节能建筑材料，双银、三银低辐射镀膜玻璃的节能特性与普通玻璃及热反射镀膜玻璃相比，其对远红外辐射具有极高的反射率。在有效减少室内外的热传递的作用下，保持室内温度稳定，减少建筑加热或制冷的能耗，起到了非常优秀的节能降耗作用。其中可热加工膜系由于适于大面积生产，且可以进行异地加工，具备目前最高效的生产流程，可以进行后续切、磨、钢夹、等工艺加工，因此广受关注，成为未来low-E玻璃发展的大趋势，但是由于双银、三银膜系对红光的高反射特性，现有中透可热加工双银、三银膜系的透过色往往明显偏绿，不够中性，颜色混浊，可视效果差；可热加工双银、三银膜系再后续热加工过程中易出现膜层氧化、耐加工性差等问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种淡透过色的可热加工节能LOW-E产品，以解决现有双银、三银膜系镀膜玻璃可视效果差的问题。
为达到上述目的，本发明采用的一种技术方案是：
一种淡透过色的可热加工节能LOW-E产品，其包括玻璃基板以及镀设于所述的玻璃基板一侧表面的镀膜层，所述的镀膜层包括所述的玻璃基体上由内到外依次沉积的多个复合镀层、外部保护层，每一个所述的复合镀层包括依次设置的介质层、种子层、功能层、保护层、AZO层，位于所述的玻璃基板一侧表面的首个所述的复合镀层的AZO层与相邻的复合镀层的介质层相邻镀设，尾个所述的复合镀层的AZO层与外部保护层相邻镀设，所述的功能层包括Ag层，或者所述的功能层包括Ag-Cu-Ag层，多个所述的复合镀层中的至少一个所述的功能层包括Ag-Cu-Ag层。
优选地，所述的功能层的厚度总范围是7～20nm。
优选地，当所述的功能层包括银层、铜层、银层时，所述的铜层的厚度范围为3～8nm。
优选地，所述的介质层、外部保护层均为SiNx层、SiOx层、SiNxOy层、TiOx层中的一层或多层的组合。
优选地，所述的种子层为ZnOx层、ZnSnOx层中的一层或多层的组合。
优选地，所述的保护层为NiCrOx层、NiCr层中的一层或多层的组合，所述的保护层的厚度小于等于2nm。
优选地，所述的复合镀层设置两个，一个所述的复合镀层包括第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层，另一个所述的复合镀层包括第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层，所述的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层在所述的玻璃基体上由内到外依次沉积。
优选地，所述的第一功能层的膜层厚度范围是7～14nm，若所述的第一功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围为3.5～5nm；
所述的第二功能层的厚度范围是10～14nm，若所述的第二功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围为4～6nm。
优选地，所述的复合镀层设置大于等于三个，首个复合镀层包括第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层，一个或多个中间复合镀层包括第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层，尾个复合镀层包括第三介质层、第三种子层、第三功能层、第三保护层、第三AZO层。
优选地，首个复合镀层的所述的第一功能层的膜层厚度范围为8～16nm，若所述的第一功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围为5～7nm；中间复合镀层的所述的第二功能层的膜层厚度范围是11～14nm，若所述的第二功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围是5～7nm；
尾个复合镀层的所述的第三功能层的膜层厚度范围是11～20nm，若所述的第三功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围为3～8nm。
由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
本发明提供的淡透过色的可热加工节能LOW-E产品具有透过色中性的特点，复合镀层的功能层中将具有透过色改善作用Cu层放在Ag间，即保证了Cu的作用不被保护层破坏，又能保证Cu膜层不被种子层氧化，还使得镀膜玻璃透过色更加中性；提高了镀膜玻璃耐氧化能力，耐加工能力，从而具备批量化工业生产的条件；本发明提供的复合镀层实现自室内观察室外景物时更加真实的观感，可视效果好，扩大产品的推广使用范围。
附图说明
附图1为本发明的实施例1的镀膜玻璃的透过曲线图；
附图2为本发明的实施例2的镀膜玻璃的透过曲线图；
附图3为本发明的对比例1的镀膜玻璃的透过曲线图；
附图4为本发明的实施例3的镀膜玻璃的透过曲线图；
附图5为本发明的实施例4的镀膜玻璃的透过曲线图；
附图6为本发明的对比例2的镀膜玻璃的透过曲线图。
具体实施方式
下面结合附图所示的实施例对本发明作进一步描述。
一种淡透过色的可热加工节能LOW-E产品，其包括玻璃基板以及镀设于所述的玻璃基板一侧表面的镀膜层，所述的镀膜层包括所述的玻璃基体上由内到外依次沉积的多个复合镀层、外部保护层，每一个所述的复合镀层包括依次设置的介质层、种子层、功能层、保护层、AZO层，位于所述的玻璃基板一侧表面的首个所述的复合镀层的AZO层与相邻的复合镀层的介质层相邻镀设，尾个所述的复合镀层的AZO层与外部保护层相邻镀设，所述的功能层包括Ag层，或者所述的功能层包括Ag-Cu-Ag层，多个所述的复合镀层中的至少一个所述的功能层包括Ag-Cu-Ag层。
当设置多个(n个)所述的复合镀层时，所有的复合镀层的功能层均包括Ag-Cu-Ag层；或者一个复合镀层的功能层包括Ag层，其余所有的复合镀层的功能层包括Ag-Cu-Ag层；或者一个复合镀层的所述的功能层包括Ag-Cu-Ag层，其余所有的复合镀层的功能层包括Ag层；或者，m个复合镀层的功能层包括Ag-Cu-Ag层，(n-m)个复合镀层的功能层包括Ag层。
所述的功能层的厚度总范围是7～20nm。当所述的功能层包括依次镀设的银层、铜层、银层时，所述的铜层的厚度范围为3～8nm。
介质层为SiNx层、SiOx层、SiNxOy层、TiOx层中的一层或多层的组合。
SiNx与玻璃具有良好的结合性能，且具有很强的抗腐蚀、抗机械划伤、抗高温氧化的性能，是一种化学稳定性极好的超强度、超硬度材料，所以第一介质层、第二介质层、第三介质层材质均选用SiNx，可以起到提高功能银层对玻璃表面附着力、保护功能银层、调节颜色、提高膜系的硬度的作用，可使整个膜系在进行热加工时耐热性更好，机械加工性能更好，以此来改善传统双银low-E玻璃膜层结合力不足、易划伤的问题。
种子层为ZnOx层、ZnSnOx层中的一层或多层的组合。当种子层选自ZnOx层时，利用ZnOx作为种子层可提高膜层的平整度，为功能层提供一个没有污染的洁净表面，增加功能层金属在膜层中的附着力，使其更好的发挥性能。同时因为ZnOx较低的消光系数，所以加入ZnOx可以提高膜层的透光率，弥补双银膜系膜层较多导致的透光率较低的问题。
金属Ag具有非常好的导电性，可以使整个膜层的平面电阻和辐射率降低，同时也起着调节膜层颜色和性能的作用。
在膜层中引入Cu后，通过调节各膜层厚度，产品的透射光谱可呈现出“双峰”，具体表现在550nm附近的绿光相对较高的吸收和600nm附件的橙色光相对较高的透射，从而使产品的透过色会更加中性，但Cu不能与保护层NiCr直接接触，因Cu与NiCr直接接触会导致热加工过程中Cu与NiCr相互扩散，进而导致形成合金后Cu对改善透过色功能失效，具体表现为600nm附近透光明显降低，产品透过色和未加Cu层相比几乎无改善；且Cu不能与种子层直接接触，当Cu与种子层直接接触会导致热加工过程中Cu被种子层中渗透出的氧原子氧化，进而导致膜层被氧化损伤。
将透过色改善层Cu层放在Ag间，即保证了Cu的作用不被NiCr破坏，又能保证膜层不被种子层氧化，即按照...Ag-Cu-Ag...的顺序镀膜，大幅提高了膜层的耐加工性。
所述的保护层为NiCrOx层、NiCr层中的一层或多层的组合。当保护层NiCr层作为Ag层的保护层及平整层，能够保护Ag层不被后续的溅射过程及加工过程氧化，提高Ag层的耐氧化性能。同时保护层与氧化物和氮化物的结合力比Ag与他们的结合力强，保护层的存在使Ag层在膜层中的附着力更加牢靠，提高Ag层的抗常温氧化和抗高温氧化性能。保护层NiCr也是光的强吸收层材料，可以起到调节膜层透光率的作用。
各保护层的膜层厚度均低于等于2nm，因膜层中保护层过厚时，由于NiCr材料的特性，会导致产品透光率降低及透过色无法避免的较绿，因此保护层的厚度使用原则应是在保证功能层不被后续加工过程不被氧化的前提下，其厚度越薄越好。
AZO层均使用氧化锌铝陶瓷靶材在纯氩气氛围中进行溅射制备而来，溅射速率较高，使用过程不会产生掉渣，膜层表面光滑致密，能够防止前面保护层及功能层被后续溅射过程氧化，起到极好的保护作用，同时，还可以减少双银low-E玻璃热加工后的光散射，使玻璃颜色更加清晰透彻。
外部保护层为SiNx层、SiOx层、SiNxOy层、TiOx层中的一层或多层的组合。
当所述的复合镀层设置两个，一个所述的复合镀层包括第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层，另一个所述的复合镀层包括第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层，所述的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层在所述的玻璃基体上由内到外依次沉积。
该复合镀层设置两个时中性色可热加工双银低辐射镀膜玻璃的制备步骤如下：
1：将待镀膜的玻璃基板进行清洗干燥；
2：真空过渡；
3：自玻璃基板向外依次真空磁控溅射形成以下各溅射层，具体溅射方法为：
S1、采用磁控溅射工艺溅射镀膜，在玻璃基板一侧表面镀设第一介质层，膜层厚度范围是38～44nm；
S2、在第一介质层外侧表面镀设第一种子层，膜层厚度范围是5～8nm；
S3、在第一种子层外侧表面镀设第一功能层，第一功能层为Ag层或Ag+Cu+Ag层(按照顺序依次分别镀膜)，膜层厚度总范围是7～14nm(如有Cu层，Cu层的厚度范围是3.5～5nm)；
S4、在第一功能层外侧表面镀设第一保护层，膜层厚度范围是0.5～2nm；
S5、在第一保护层外侧表面镀设第一AZO层，膜层厚度范围是8～10nm；
S6、在第一AZO层外侧表面镀设第二介质层，膜层厚度范围是76～84nm；
S7、在第二介质层外侧表面镀设第二种子层，膜层厚度范围是5～8nm；
S8、在第二种子层外侧表面镀设第二功能层，第二功能层为Ag层或Ag+Cu+Ag层(按照顺序依次分别镀膜)，膜层厚度范围是10～14nm(如有Cu层，Cu层的厚度范围是4～6nm)；
S9、在第二功能层外侧表面镀设第二保护层，膜层厚度范围是0.5～2nm；
S10、在第二保护层外侧表面镀设第二AZO层，膜层厚度范围是8～10nm；
S11、在第二AZO层外侧表面镀设第三介质层，膜层厚度范围是31～36nm。
其中，S1、S6、S11膜层的溅射方法为：采用交流中频电源，使用靶材为SiAl靶或者纯Si靶，靶材纯度大于99.7％(如果采用SiAl靶，SiAl靶中中Al含量为8～15wt％，SiAl材料中掺杂的Al主要作用是增加膜层材料的导电性，下同)，在氩气、氮气混合气体中溅射而成；
其中S2、S7膜层的溅射方法为：采用交流中频电源，使用靶材为ZnAl靶，靶材纯度大于99.8％，靶材中Al含量为1.5～2.5wt％，在氩气、氧气混合气体中溅射而成；
其中S3、S8膜层的溅射方法为：采用直流电源，使用靶材为Ag+Cu靶或Ag靶，靶材纯度大于99.99％，在纯氩气工作气体中进行溅射；
其中S4、S9膜层的溅射方法为：采用直流电源，使用靶材为NiCr靶，靶材纯度大于99.9％，靶材中Cr含量为15～25wt％，在纯氩气工作气体中进行溅射；
其中S4、S9各膜层的厚度均应低于2nm，且两层膜厚度之和应低于3.5nm，因膜层中保护层过厚时，由于NiCr材料的特性，会导致产品透光率降低及透过色无法避免的较绿，因此保护层的厚度使用原则应是在保证功能层不被后续加工过程不被氧化的前提下，其厚度越薄越好。
其中S5、S10膜层的溅射方法为：采用交流电源，使用靶材为AZO靶(AZO靶为氧化物陶瓷掺铝氧化锌靶，靶材中Al2O3含量范围是2～3wt％)靶材纯度大于99.8％，在纯氩气工作气体中进行溅射。
实施例1
各个膜层的结构、厚度如下：
S1、第一介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是39.9nm；
S2、第一种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6nm；
S3、第一功能层为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是10.25nm；
S4、第一保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.82nm；
S5、第一AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S6、第二介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是82.2nm；
S7、第二种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是7nm；
S8、第二功能层为Ag+Cu+Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度依次是6nm+4.2nm+2.8nm；
S9、第二保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是1.45nm；
S10、第二AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S11、第三介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是33.4nm。
本实施例提供的镀膜玻璃热加工前和热加工后的透过色数据如下表1：
表1实施例1的镀膜玻璃的透过色数据
| 透过色a* | 透过色b* | |
| 热加工前 | -2.3 | -1.3 |
| 热加工后 | -1.76 | -0.5 |
本实施例所示的镀膜玻璃产品的透过曲线参见图1，热加工后镀膜玻璃透过颜色呈中性色，其颜色接近自然色。
实施例2
本例与实施例1的区别是：本例中两个功能层均为Ag+Cu+Ag层。
各个膜层的结构、厚度如下：
S1、第一介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是39.9nm；
S2、第一种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6nm；
S3、第一功能层为Ag+Cu+Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是4nm+3.4nm+2.85nm；
S4、第一保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.82nm；
S5、第一AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S6、第二介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是82.2nm；
S7、第二种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是7nm；
S8、第二功能层为Ag+Cu+Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度依次是6nm+4.2nm+2.8nm；
S9、第二保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是1.45nm；
S10、第二AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S11、第三介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是33.4nm；
本实施例提供的镀膜玻璃的热加工前和热加工后的透过色数据如下表2：
表2实施例2的镀膜玻璃的透过色数据
| 透过色a* | 透过色b* | |
| 热加工前 | -2 | -0.2 |
| 热加工后 | -1.15 | -0.46 |
本实施例所示的镀膜玻璃产品的透过曲线参见图2，热加工后镀膜玻璃透过颜色呈中性色，其颜色接近自然色。
对比例1
本例与实施例1的区别是：两个功能层均为Ag层。
各个膜层的结构、厚度如下：
S1、第一介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是39.9nm；
S2、第一种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6nm；
S3、第一功能层为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是10.25nm；
S4、第一保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.82nm；
S5、第一AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S6、第二介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是82.2nm；
S7、第二种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是7nm；
S8、第二功能层为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度依次是13.4nm；
S9、第二保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是1.45nm；
S10、第二AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S11、第三介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是33.4nm。
本例提供的镀膜玻璃的热加工前和热加工后的透过色数据如下表3：
表3对比例1的镀膜玻璃的透过色数据
| 透过色a* | 透过色b* | |
| 热加工前 | -6.9 | 1.2 |
| 热加工后 | -6.4 | 1.38 |
本例所示的镀膜玻璃产品的透过曲线参见图3，热加工后镀膜玻璃透过颜色呈蓝绿色，其颜色较重。
由实施例1-2、对比例1提供的透过色数据、透过曲线可知，功能层为Ag+Cu+Ag层时，产品的透过色会更加中性，透过色为中性灰。由于Cu材料的引入，开发的可后续热加工的节能产品的透过色更加中性，将具有透过色改善功能的Cu层放在Ag间，即保证了Cu的作用不被保护层NiCr破坏，又能保证Cu膜层不被种子层氧化。
所述的复合镀层设置三个及以上，首个复合镀层包括第一介质层SiNx、第一种子层ZnOx层、第一功能层、第一保护层NiCr层、第一AZO层，一个或多个中间复合镀层包括第二介质层SiNx层、第二种子层ZnOx层、第二功能层、第二保护层NiCr层、第二AZO层，尾个复合镀层包括第三介质层SiNx层、第三种子层ZnOx层、第三功能层、第三保护层NiCr层、第三AZO层。
当所述的复合镀层设置三个时，所述的第一介质层SiNx、第一种子层ZnOx层、第一功能层、第一保护层NiCr层、第一AZO层、第二介质层SiNx层、第二种子层ZnOx层、第二功能层、第二保护层NiCr层、第二AZO层、第三介质层SiNx层、第三种子层ZnOx层、第三功能层、第三保护层NiCr层、第三AZO层在所述的玻璃基体上由内到外依次沉积，第三AZO层沉积在外部保护层。
当复合镀层设置三个时中性色可热加工三银低辐射镀膜玻璃的制备步骤如下：
1：将待镀膜的玻璃基板进行清洗干燥；
2：真空过渡；
3：自玻璃基板向外依次真空磁控溅射形成以下各溅射层，具体溅射方法为：
S1、采用磁控溅射工艺溅射镀膜，在玻璃基板一侧表面镀设第一介质层，膜层厚度范围是28～35nm；
S2、在第一介质层外侧表面镀设第一种子层，膜层厚度范围是5～8nm；
S3、在第一种子层外侧表面镀设第一功能层，第一功能层为Ag层或Ag+Cu+Ag层(按照顺序依次分别镀膜)，膜层厚度总范围是8～16nm(如有Cu层，Cu层的厚度范围是5～7nm)；
S4、在第一功能层外侧表面镀设第一保护层，膜层厚度范围是0.5～2nm；
S5、在第一保护层外侧表面镀设第一AZO层，膜层厚度范围是8～10nm；
S6、第一AZO层外侧表面镀设第二介质层，膜层厚度范围是43～58nm；
S7、在第二介质层外侧表面镀设第二种子层，膜层厚度范围是5～8nm；
S8、在第二种子层外侧表面镀设第二功能层，第二功能层为Ag层或Ag+Cu+Ag层(按照顺序依次分别镀膜)，膜层厚度范围是11～14nm(如有Cu层，Cu层的厚度范围是5～7nm)；
S9、在第二功能层外侧表面镀设第二保护层，膜层厚度范围是0.5～2nm；
S10、在第二保护层外侧表面镀设第二AZO层，膜层厚度范围是8～10nm；
S11、在第二AZO层外侧表面镀设第三介质层，膜层厚度范围是75～83nm；
S12、在第三介质层外侧表面镀设第三种子层，膜层厚度范围是5～8nm；
S13、在第三种子层外侧表面镀设第三功能层，第三功能层为Ag层或Ag+Cu+Ag层(按照顺序依次分别镀膜)，膜层厚度范围是11～20nm(如有Cu层，Cu层的厚度范围是3～8nm)；
S14、在第三功能层外侧表面镀设第三保护层，膜层厚度范围是0.5～2nm；
S15、在第三保护层外侧表面镀设第三AZO层，膜层厚度范围是8～10nm；
S16、在第三AZO层外侧表面镀设第四介质层，膜层厚度范围是30～40nm。
其中S1、S6、S11、S16膜层的溅射方法为：采用交流中频电源，使用靶材为SiAl靶或者纯Si靶，靶材纯度大于99.7％(如果采用SiAl靶，SiAl靶中中Al含量为8～15wt％，SiAl材料中掺杂的Al主要作用是增加膜层材料的导电性，下同)，在氩气、氮气混合气体中溅射而成；
其中S2、S7、S12膜层的溅射方法为：采用交流中频电源，使用靶材为ZnAl靶，靶材纯度大于99.8％，靶材中Al含量为1.5～2.5wt％，在氩气、氧气混合气体中溅射而成；
其中S3、S8、S13膜层的溅射方法为：采用直流电源，使用靶材为Ag+Cu+Ag靶或Ag靶，靶材纯度大于99.99％，在纯氩气工作气体中进行溅射；
其中S4、S9、S14膜层的溅射方法为：采用直流电源，使用靶材为NiCr靶，靶材纯度大于99.9％，靶材中Cr含量为15～25wt％，在纯氩气工作气体中进行溅射；
其中S4、S9、S14各膜层的厚度均应低于2nm，且三层膜厚度之和应低于5nm，因膜层中保护层过厚时，由于NiCr材料的特性，会导致产品透光率降低及透过色无法避免的较绿，因此保护层的厚度使用原则应是在保证功能层不被后续加工过程不被氧化的前提下，其厚度越薄越好。
其中S5、S10、S15膜层的溅射方法为：采用交流电源，使用靶材为AZO靶(AZO靶为氧化物陶瓷掺铝氧化锌靶，靶材中Al2O3含量范围是2～3wt％)靶材纯度大于99.8％，在纯氩气工作气体中进行溅射。
实施例3
在本实施例中，具体的膜层结构及厚度为：
S1、第一介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是33.8nm；
S2、第一种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6nm；
S3、第一功能层为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是8.3nm；
S4:第一保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.82nm；
S5、第一AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S6、第二介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是56.2nm；
S7、第二种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是7nm；
S8、第二功能层为Ag+Cu+Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度依次是3.8nm+6.3nm+2.4nm；
S9、第二保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是1.26nm；
S10、第二AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S11、第三介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是72.1nm；
S12、第三种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是8nm；
S13、第三功能层为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是14.1nm；
S14、第三保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.9nm；
S15、第三AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S16、第四介质层为SiNx层；采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是35.8nm。
本实施例提供的镀膜玻璃热加工前和热加工后的透过色数据如下表4：
表4实施例3的镀膜玻璃的透过色数据
| 透过色a* | 透过色b* | |
| 热加工前 | -1.8 | 3.2 |
| 热加工后 | -1.75 | 1.2 |
由本实施例的镀膜玻璃的透过曲线图4可知，本实施例所示的产品热加工后透过颜色呈中性色，其颜色接近自然色。
实施例4
本实施例与实施例3的区别在于：三个功能层均为Ag+Cu+Ag层。
在本实施例中，具体的膜层结构及厚度为：
S1、第一介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是33.8nm；
S2、第一种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6nm；
S3、第一功能层为Ag+Cu+Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是2.8nm+3.3nm+2.2nm；
S4、第一保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.82nm；
S5、第一AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S6、第二介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是56.2nm；
S7、第二种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是7nm；
S8、第二功能层为Ag+Cu+Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度依次是3.8nm+6.3nm+2.4nm；
S9、第二保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是1.26nm；
S10、第二AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S11、第三介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是72.1nm；
S12、第三种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是8nm；
S13、第三功能层为Ag+Cu+Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是4.4nm+5.2nm+4.5nm；
S14、第三保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.9nm；
S15、第三AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S16、第四介质层为SiNx层；采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是35.8nm。
本实施例提供的镀膜玻璃热加工前和热加工后的透过色数据如下表5：
表5实施例4的镀膜玻璃的透过色数据
| 透过色a* | 透过色b* | |
| 热加工前 | -0.8 | 2.56 |
| 热加工后 | -0.73 | 0.35 |
由本实施例的镀膜玻璃的透过曲线图5可知，本实施例所示的产品热加工后透过颜色呈中性色，其颜色接近自然色。
对比例2
本实施例与实施例3的区别在于：第一、二、三功能层均为Ag层。
本实施例的具体的膜层结构及厚度如下：
S1:第一介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是33.8nm；
S2:第一种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6nm；
S3:第一功能层为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是8.3nm；
S4:第一保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.82nm；
S5:第一AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S6:第二介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是56.2nm；
S7:第二种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是7nm；
S8:第二功能层为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度依次是12nm；
S9:第二保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.7nm；
S10:第二AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S11:第三介质层为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是72.1nm；
S12:第三种子层为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是8nm；
S13:第三功能层为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是14.1nm；
S14:第三保护层为NiCr层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.9nm；
S15:第三AZO层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S16:第四介质层为SiNx层；采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是35.8nm。
本例提供的镀膜玻璃热加工前和热加工后的透过色数据如下表6：
表6对比例2的镀膜玻璃的透过色数据
| 透过色a* | 透过色b* | |
| 热加工前 | -3.1 | 2.9 |
| 热加工后 | -4.87 | 0.42 |
由本实施例的镀膜玻璃的透过曲线图6可知，本实施例所示的产品热加工后透过颜色呈蓝绿色，其颜色较重。
由实施例3-4、对比例2提供的透过色数据、透过曲线可知，当功能层为Ag+Cu+Ag层时，产品的透过色会更加中性，透过色为中性灰。将具有透过色改善作用Cu层放在Ag间，即保证了Cu的作用不被保护层NiCr破坏，又能保证Cu膜层不被种子层氧化，由于Cu材料的引入，开发的可后续热加工的节能产品的透过色更加中性。
为了能定量的说明和衡量颜色，在国际上一般采用CIE1976L*a*b*色度空间来测量颜色：一般用L或者R来表示亮度，两者有一定的换算关系，数值在0-100范围内，数值越大表示亮度越高；用a*表示红绿度，a*为负表示绿，a*为正表示红，绝对值越大表示绿或者红的程度越大；用b*表示黄蓝度，b*为负表示蓝，b*为正表示黄，绝对值越大表示黄或者蓝的程度越大；a*和b*越接近于零表示透过色越中性。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种淡透过色的可热加工节能LOW-E产品，其特征在于：
包括玻璃基板以及镀设于所述的玻璃基板一侧表面的镀膜层，所述的镀膜层包括所述的玻璃基板上由内到外依次沉积的多个复合镀层、外部保护层，每一个所述的复合镀层包括依次设置的介质层、种子层、功能层、保护层、AZO层，位于所述的玻璃基板一侧表面的首个所述的复合镀层的AZO层与相邻的复合镀层的介质层相邻镀设，尾个所述的复合镀层的AZO层与外部保护层相邻镀设，所述的功能层包括Ag层，或者所述的功能层包括Ag-Cu-Ag层，多个所述的复合镀层中的至少一个所述的功能层包括Ag-Cu-Ag层；
所述的功能层的厚度总范围是7～20nm；
当所述的功能层包括银层、铜层、银层时，所述的铜层的厚度范围为3～8nm；
所述的种子层为ZnOx层、ZnSnOx层中的一层或多层的组合；
所述的保护层为NiCrOx层、NiCr层中的一层或多层的组合，所述的保护层的厚度小于等于2nm。
2.根据权利要求1所述的淡透过色的可热加工节能LOW-E产品，其特征在于：
所述的介质层、外部保护层均为SiNx层、SiOx层、SiNxOy层、TiOx层中的一层或多层的组合。
3.根据权利要求1所述的淡透过色的可热加工节能LOW-E产品，其特征在于：
所述的复合镀层设置两个，一个所述的复合镀层包括第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层，另一个所述的复合镀层包括第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层，所述的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层在所述的玻璃基体上由内到外依次沉积。
4.根据权利要求3所述的淡透过色的可热加工节能LOW-E产品，其特征在于：
所述的第一功能层的膜层厚度范围是7～14nm，若所述的第一功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围为3.5～5nm；
所述的第二功能层的厚度范围是10～14nm，若所述的第二功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围为4～6nm。
5.根据权利要求1所述的淡透过色的可热加工节能LOW-E产品，其特征在于：
所述的复合镀层设置大于等于三个，首个复合镀层包括第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层，一个或多个中间复合镀层包括第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层，尾个复合镀层包括第三介质层、第三种子层、第三功能层、第三保护层、第三AZO层。
6.根据权利要求5所述的淡透过色的可热加工节能LOW-E产品，其特征在于：
首个复合镀层的所述的第一功能层的膜层厚度范围为8～16nm，若所述的第一功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围为5～7nm；中间复合镀层的所述的第二功能层的膜层厚度范围是11～14nm，若所述的第二功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围是5～7nm；
尾个复合镀层的所述的第三功能层的膜层厚度范围是11～20nm，若所述的第三功能层包括Cu层，Cu层的厚度范围为3～8nm。
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