CN101988908A - 用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于对基板的缺陷进行区分的系统和方法，其中，该系统包括：至少一个照明单元，设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧并且用于向所述基板照射光；至少一个第一成像单元和至少一个第二成像单元，设置在所述基板的另一相对表面的外侧并且分别用于通过感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像，其中所述第一成像单元的光轴和所述第二成像单元的光轴之间的夹角大于零；至少一个图像构建模块，用于分别根据所述第一成像单元所拍摄的图像和所述第二成像单元所拍摄的图像，构建所述基板的两个图像；以及，至少一个图像处理模块，用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。利用该方法和系统，可以区分透明或半透明的基板的缺陷是位于基板表面上的缺陷还是位于基板内部的缺陷。

Description

用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统

技术领域

本发明涉及一种用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统。

背景技术

目前，许多领域都应用透明或半透明的基板，例如，在太阳能模块产业中，用于光伏电池或光伏模块中的图案化或结构化基板。在制造过程中，透明或半透明的基板会产生各种各样的缺陷，例如位于基板表面的划伤、脏迹和开口气泡等以及位于基板内部的闭口气泡和结石(包括黑石、白石或其他颜色的结石)等。现有技术已经提出许多缺陷检测方案用来检测透明或半透明的基板的缺陷。

然而，随着对透明或半透明的基板的质量的要求越来越高，需要针对不同类型的缺陷采取不同的质量控制标准。在这种情况下，不但需要检测出透明或半透明的基板所存在的缺陷，而且还需要区分所检测出的缺陷是位于基板表面的缺陷还是位于基板内部的缺陷。

发明内容

本发明的实施例提供一种用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统，利用该方法和系统，可以区分透明或半透明的基板的缺陷是位于基板表面的缺陷还是位于基板内部的缺陷。

按照本发明的一种用于对基板的缺陷进行区分的系统，包括：至少一个照明单元，设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧并且用于向所述基板照射光；至少一个第一成像单元和至少一个第二成像单元，设置在所述基板的另一相对表面的外侧并且分别用于通过感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像，其中所述第一成像单元的光轴和所述第二成像单元的光轴之间的夹角大于零；至少一个图像构建模块，用于分别根据所述第一成像单元所拍摄的图像和所述第二成像单元所拍摄的图像，构建所述基板的两个图像；以及，至少一个图像处理模块，用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。

按照本发明的一种用于对基板的缺陷进行区分的方法，包括步骤：将至少一个照明单元设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧，其中所述照明单元用于向所述基板照射光；将至少一个第一成像单元和至少一个第二成像单元设置在所述基板的另一相对表面的外侧并使所述第一成像单元的光轴和所述第二成像单元的光轴之间的夹角大于零，其中所述第一和第二成像单元分别用于通过感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像；设置至少一个图像构建模块，其中所述图像构建模块用于分别根据所述第一成像单元和所述第二成像单元所拍摄的图像，构建所述基板的两个图像；以及，设置至少一个图像处理模块，其中所述图像处理模块用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。

附图说明

本发明的以上和其他的特征、特点和优点通过以下结合附图的详细描述将变得更加显而易见。其中：

图1A-1K是示出按照本发明一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的技术方案的概要示意图；

图2是示出按照本发明一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的系统的结构示意图；

图3是示出按照本发明一个实施例的照明单元和成像单元的工作时序示意图；以及

图4是示出按照本发明另一实施例的照明单元和成像单元的工作时序示意图。

具体实施方式

下面，将结合附图详细描述本发明的各个实施例。

图1A-1G是示出按照本发明一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的技术方案的概要示意图。

首先，如图1A所示，在透明或半透明的基板S的其中一个表面B1的外侧设置照明单元L以向基板S照射光，以及，在基板S的另一相对表面B2的外侧设置两个线阵成像单元M1和M2，分别用于通过感测照明单元L向基板S照射并投射通过基板S的光来拍摄一维图像。线阵成像单元M1的光轴和线阵成像单元M2的光轴的夹角为α。在这里，为了便于叙述，假设线阵成像单元M1的光轴垂直于基板S的表面B1和B2。当基板S沿着z方向移动时，线阵成像单元M1和M2分别按照一定的时间间隔不断地感测照明单元L向基板S照射并投射通过基板S的光来拍摄获得多个一维图像，然后，利用线阵成像单元M1所拍摄获得的多个一维图像可构建得到基板S的图像，同样，利用线阵成像单元M2所拍摄获得的多个一维图像也可构建得到基板S的图像。

如图1B所示，假设在与基板S的左边相距z1且垂直于基板S的位置处，基板S存在两个缺陷D1和D2，其中，缺陷D1位于基板S的线阵成像单元M1和M2所在一侧的表面B2上，而缺陷D2位于基板S内部，其与基板S的线阵成像单元M1和M2所在一侧的表面B2的距离为h。

在线阵成像单元M1和M2分别按照一定的时间间隔不断地感测照明单元L向基板S照射并投射通过基板S的光来拍摄一维图像的过程中，当基板S沿着z方向移动到图1C所示的位置处时，线阵成像单元M1拍摄获得的一维图像中包括缺陷D1和D2；当基板S沿着z方向移动到图1D所示的位置处时，线阵成像单元M2拍摄获得的一维图像中包括缺陷D1；以及，当基板S沿着z方向移动到图1E所示的位置处时，线阵成像单元M2拍摄获得的一维图像中包括缺陷D2。

利用线阵成像单元M1所拍摄获得的一维图像所构建得到的基板S的图像X1如图1F所示，以及，利用线阵成像单元M2所拍摄获得的一维图像所构建得到的基板S的图像X2如图1G所示。

通过比较图1F和1G所示的基板S的两个图像X1和X2可以发现：在基板S的这两个图像X1和X2中，位于基板S的表面B2上的缺陷D1的位置是相同的，位于基板S的内部的缺陷D2的位置是不相同的而是具有偏移量d′。偏移量d′与图1E中所示的d成正比，

$d=h*\mathrm{tg}\left(\arcsin \left(\frac{1}{n}\sin \mathrm{\α}\right)\right)$

其中，n为基板S的折射率，α为线阵成像单元M2的光轴与基板S的表面法线的夹角(这里也即线阵成像单元M2的光轴与线阵成像单元M1的光轴的夹角)。可以看出，随着h和α的增大，d增大，偏移量d′也增大。

此外，当缺陷D2与在基板S的表面B2的距离h达到最大值，即缺陷D2位于基板S的另一相对表面B 1上时，缺陷D2在图像X1和X2中的位置是不相同的并且其偏移量是最大的。

上面的描述披露了如下规律：在线阵成像单元M2的光轴与线阵成像单元M1的光轴具有一定夹角且线阵成像单元M1的光轴垂直于基板S的表面的情况下，在分别利用线阵成像单元M1和M2拍摄的一维图像所构建得到的基板S的两个图像中，位于基板S的表面上的缺陷的位置是相同的或者其偏移量是最大的，位于基板S的内部的缺陷的位置不相同并且其偏移量小于基板S的表面B1上的缺陷在图像X1和X2中的位置的偏移量。

其实，只要线阵成像单元M2的光轴与线阵成像单元M1的光轴具有一定夹角，并不需要线阵成像单元M1或M2的光轴垂直于基板S的表面，在分别利用线阵成像单元M1和M2拍摄的一维图像所构建得到的两个基板S的图像中，位于基板S的表面上的缺陷的位置是相同的或者其偏移量是最大的，位于基板S的内部的缺陷的位置不相同并且其偏移量小于基板S的表面B1上的缺陷在图像X1和X2中的位置的偏移量。

上面所披露的规律不但对于成像单元是线阵成像单元的情形适用，而且对于成像单元是二维成像单元的情形也适用。

不过，在成像单元是二维成像单元的情况下，如果二维成像单元相对于基板S被倾斜放置，即二维成像单元的光轴与基板S表面的法线之间的夹角大于零，则此时的二维成像单元所拍摄的图像相对于其光轴与基板S表面的法线之间的夹角等于零时所拍摄的图像具有压缩变形。例如，对于图1H所示出的正方形，当二维成像单元的光轴与基板S表面的法线之间的夹角等于零时，二维成像单元所拍摄的图像如图1J所示，而当二维成像单元的光轴与基板S表面的法线之间的夹角大于零时，二维成像单元所拍摄的图像如图1K所示。在图1J中，所拍摄得到的图像是正方形，而在图1K中，所拍摄得到的图像是梯形。可以看出，相对于图1J的图像，图1K的图像的底边没有变化，但顶边和高度都被压缩了。而且，随着二维成像单元的光轴与基板S表面的法线之间的夹角越大，二维成像单元所拍摄的图像具有越大的压缩变形。

因此，在成像单元是二维成像单元的情况下，在利用二维成像单元拍摄的图像来构建基板S的图像之前，如果二维成像单元的光轴与基板S表面的法线之间的夹角大于零，则需要先根据二维成像单元拍摄的图像的底边的长度来拉伸二维成像单元拍摄的图像的顶边和高度，以消除二维成像单元拍摄的图像的压缩变形。

按照本发明的实施例的用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统正是基于上面所披露的规律而设计的。

图2是示出按照本发明一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的系统的结构示意图。如图2所示，用于对基板的缺陷进行区分的系统200包括照明单元210、第一成像单元220、第二成像单元230、图像构建模块240和图像处理模块250。

照明单元210设置在透明或半透明的基板260的其中一个表面B1的外侧，用于向基板260照射光。其中，照明单元210向基板260照射的光可以是非漫射光或漫射光。在照明单元210向基板260照射的光是漫射光的情况下，如果基板260是图案化或结构化的基板，则能够有效地减弱或消除基板260中的图案或结构对基板260的缺陷检测的影响。照明单元210可以包括一个或多个光源，以便照明单元210能在基板260的整个宽度范围上向基板260照射光。

第一成像单元220和第二成像单元230设置在基板260的另一相对表面B2的外侧，分别用于通过感测照明单元210向基板260照射且透射通过基板260的光来拍摄图像。第一成像单元220的光轴和第二成像单元230的光轴之间具有大于零的夹角α。第一成像单元220和照明单元210形成第一通道，以及第二成像单元230和照明单元210形成第二通道。在系统200工作期间，当基板260沿着z方向移动时，第一成像单元220和第二成像单元230分别以预定时间间隔通过感测照明单元210向基板260照射且透射通过基板260的光来拍摄图像。

第一成像单元220和第二成像单元230可以由线阵成像元件或面阵成像元件构成，其中，线阵成像元件包括例如CCD(Charge CoupledDevice：电荷耦合器件)线阵成像元件、CMOS(Complementary MetalOxide Semiconductor：互补金属氧化物半导体)线阵成像元件、或者其它类型的线阵成像元件，面阵成像元件包括例如CCD面阵成像元件、CMOS面阵成像元件或者其它类型的面阵成像元件。当第一成像单元220和第二成像单元230是线阵成像单元时，第一成像单元220和第二成像单元230各自可以包括一个或多个线阵成像元件，该一个或多个线阵成像元件可以按照直线排列，沿着一个直线在该直线两边交错排列，或者与一个直线成预定夹角间隔预定距离排列。当第一成像单元220和第二成像单元230是二维成像单元时，第一成像单元220和第二成像单元230各自可以包括一个或多个线阵成像元件或面阵成像元件，该一个或多个线阵成像元件或面阵成像元件可以按照矩阵排列，按照直线排列，沿着一个直线在该直线两边交错排列，或者与一个直线成预定夹角间隔预定距离排列。

图像构建模块240与第一成像单元220和第二成像单元230连接，用于分别利用第一成像单元220和第二成像单元230所拍摄的图像来构建基板260的两个图像，即利用第一成像单元220所拍摄的图像来构建基板260的其中一个图像和利用第二成像单元230所拍摄的图像来构建基板260的另一个图像。为了便于叙述，将利用第一成像单元220所拍摄的图像来构建的基板260的图像称为图像T1，以及将利用第二成像单元230所拍摄的图像来构建的基板260的图像称作图像T2。

其中，当第一成像单元220和第二成像单元230是二维成像单元时，如果第一成像单元220和/或第二成像单元230拍摄的图像具有压缩变形，则在分别利用第一成像单元220和第二成像单元230所拍摄的图像来构建基板260的两个图像之前，图像构建模块240先根据第一成像单元220和/或第二成像单元230拍摄的图像的底边的长度，拉伸第一成像单元220和/或第二成像单元230拍摄的图像的顶边和高度，以消除第一成像单元220和/或第二成像单元230拍摄的图像具有压缩变形。

图像处理模块250与图像构建模块240连接，用于对图像构建模块240所构建的图像T1和T2进行处理以确定基板260是否存在缺陷，以及当确定基板260存在缺陷Q时，根据缺陷Q在图像T1和T2中的位置的相互关系，检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷还是位于基板260的内部的缺陷。其中，当缺陷Q在图像T1和T2中的位置相同或者缺陷Q在图像T1和T2中的位置的偏移量等于最大偏移量ZL时，图像处理模块250检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷，以及当缺陷Q在图像T1和T2中的位置不相同且其偏移量小于最大偏移量ZL时，检测缺陷Q是位于基板260的内部的缺陷。

在这里，图像处理250既可以使用同一申请人于2009年2月27日递交的、题目为“用于检测图案化基板的缺陷的方法和系统”和申请号为200910117993.X的中国专利申请所披露的技术方案来确定基板260是否存在缺陷，也可以使用现有的和以后提出的各种对图像进行处理以确定基板是否存在缺陷的技术来确定基板260是否存在缺陷。

最大偏移量ZL是基板260的表面B1上的缺陷在分别利用第一成像单元220和/或第二成像单元230所拍摄的图像构建而得的基板260的两个图像中的位置的偏离量。在这里，可以把由多个等间距的诸如圆或多边形等这样的图形构成的标定板放在基板260的表面B1上，计算标定板中相同的图形在分别利用第一成像单元220和/或第二成像单元230所拍摄的图像构建而得的基板260的两个图像中的位置的偏离量，作为最大偏移量ZL。显然，也可以使用本领域技术人员所公知的其它技术来获取最大偏移量ZL。

以下是图像处理模块250根据缺陷Q在图像T1和T2中的位置的相互关系来检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷还是位于基板260的内部的缺陷的一个示例。首先，图像处理模块250计算缺陷Q在图像T1中的位置坐标WZ1和在图像T2中的位置坐标WZ2。接着，计算位置坐标WZ1和位置坐标WZ2的差的绝对值JZ。然后，图像处理模块250比较所计算的JZ是否等于零或者最大偏移量ZL。如果比较结果表明所计算的JZ等于零或者最大偏移量ZL，则图像处理模块250检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷，以及，如果比较结果表明所计算的JZ既不等于零也不等于最大偏移量ZL，则图像处理模块250检测缺陷Q是位于基板260的内部的缺陷。

图3是示出按照本发明一个实施例的照明单元和成像单元的工作时序示意图。如图3所示，照明单元210每个脉冲(T1、T2、T3、...、Tn)向基板260照射一次光，照射的持续时长为一个脉冲宽度。第一成像单元220和第二成像单元230都是以每两个脉冲的时间间隔拍摄一个图像，其中，第二成像单元230拍摄图像的时刻和第一成像单元220拍摄图像的时刻相隔一个脉冲宽度的时间长度，即第二成像单元230在编号为偶数的脉冲(T2、T4、T6、...)中拍摄图像，而第一成像单元220在编号为奇数的脉冲(T1、T3、T5、...、Tn)中拍摄图像。

其它变型

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的实施例中，由图像处理模块250对图像构建模块240所构建的图像T1和T2进行处理以确定基板260是否存在缺陷，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，也可以由系统200之外的其它模块而不是图像处理模块250来确定基板260是否存在缺陷。在这种情况下，图像处理模块250仅用于当基板260被确定存在缺陷Q时，根据缺陷Q在图像T1和T2中的位置是否相同，检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷还是位于基板260的内部的缺陷。

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的各个实施例中，照明单元210在每个脉冲(T1、T2、T3、...、Tn)向基板260照射一次光，照射的持续时长为一个脉冲宽度，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，也可以在系统200工作期间，照明单元210一直持续地向基板260照射光。

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的各个实施例中，第一成像单元220和第二成像单元230都是以每两个脉冲的时间间隔拍摄一个图像，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，第一成像单元220和第二成像单元230也可以以每一个或大于两个脉冲的时间间隔拍摄一个图像。

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的各个实施例中，第二成像单元230拍摄图像的时刻和第一成像单元220拍摄图像的时刻相隔一个脉冲宽度的时间长度，然而本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，第二成像单元230拍摄图像的时刻和第一成像单元220拍摄图像的时刻也可以是同一时刻，或者相隔除了一个脉冲宽度之外的其它时间长度。

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的各个实施例中，第一成像单元220和第二成像单元230使用相同的照明单元210，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，照明单元210可以包括第一照明单元210-1和第二照明单元210-2，其中，第一成像单元220感测第一照明单元210-1照射并透射通过基板260的光来拍摄图像，第二成像单元230感测第二照明单元210-2照射并透射通过基板260的光来拍摄图像。图4是示出按照本发明另一实施例的照明单元和成像单元的工作时序示意图。如图4所示，第一照明单元210-1和第二照明单元210-2每两个脉冲向基板260照射一次光，照射的持续时长为一个脉冲宽度，其中，第一照明单元210-1向基板260照射光的时刻和第二照明单元210-2向基板260照射光的时刻相隔一个脉冲宽度的时间长度。第一成像单元220在第一照明单元210-1向基板260照射光的每个脉冲期间拍摄一个图像，第二成像单元220在第二照明单元210-2向基板260照射光的每个脉冲期间拍摄一个图像。第一照明单元210-1和第二照明单元210-2各自可以包括一个或多个光源，该一个或多个光源可以根据需要按照直线或矩阵的形式排列。

除了图4所示出的情形外，本领域技术人员应当理解，第一照明单元210-1向基板260照射光的时刻和第二照明单元210-2向基板260照射光的时刻也可以是相同时刻。第一照明单元210-1和第二照明单元210-2也可以以大于两个脉冲的时间间隔向基板260照射一次光。

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的各个实施例中，当系统200工作时，基板260移动，第一成像单元220、第二成像单元230和照明单元210静止不动，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，当系统200工作时，也可以基板260静止不动，第一成像单元220、第二成像单元230和照明单元210移动。

本领域技术人员应当理解，上面各个实施例中的基板可以包括在太阳能模块产业中，用于光伏电池或光伏模块中的图案化或结构化基板。

本领域技术人员应当理解，第一成像单元和第二成像单元的数量可以根据基板的宽度、成像数值孔径、检测精度以及基板的缺陷的预计最大数量和最小检测尺寸而确定。

本领域技术人员应当理解，图像构建模块240和图像处理模块250可以利用软件、硬件或软硬件结合的方式来实现。

本领域技术人员应当理解，本发明的各个实施例可以在没有偏离发明实质的情况下做出各种变型和改变，并且这些变型和改变都应该落入本发明的保护范围。因此，本发明的保护范围由所附的权利要求书来定义。

Claims (23)

1.一种用于对基板的缺陷进行区分的系统，包括：

至少一个照明单元，设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧并且用于向所述基板照射光；

至少一个第一成像单元和至少一个第二成像单元，设置在所述基板的另一相对表面的外侧并且分别用于通过感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像，其中所述第一成像单元的光轴和所述第二成像单元的光轴之间的夹角大于零；

至少一个图像构建模块，用于分别根据所述第一成像单元所拍摄的图像和所述第二成像单元所拍摄的图像，构建所述基板的两个图像；以及

至少一个图像处理模块，用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。

2.如权利要求1所述的系统，其中

所述图像处理模块进一步用于当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置相同或者其偏移量等于最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷，其中，所述最大偏移量等于所述基板的所述其中一个表面上的缺陷在分别根据所述第一成像单元所拍摄的图像和所述第二成像单元所拍摄的图像所构建的所述基板的两个图像中的位置的偏移量。

3.如权利要求1所述的系统，其中

所述图像处理模块进一步用于当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置不相同且其偏移量小于最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的内部的缺陷，其中，所述最大偏移量等于所述基板的所述其中一个表面上的缺陷在分别根据所述第一成像单元所拍摄的图像和所述第二成像单元所拍摄的图像所构建的所述基板的两个图像中的位置的偏移量。

4.如权利要求1所述的系统，其中

所述照明单元包括第一照明单元和第二照明单元，其中

所述第一成像单元用于通过感测所述第一照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像，以及

所述第二成像单元用于通过感测所述第二照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像。

5.如权利要求1所述的系统，其中

所述照明单元向所述基板照射的光是漫射光。

6.如权利要求1所述的系统，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元用于以预定的时间间隔通过同时地或相隔预定时间长度地感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像。

7.如权利要求1所述的系统，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元是线阵成像单元，其中，所述线阵成像单元包括一个或多个线阵成像元件，所述一个或多个线阵成像元件按照直线排列、在一个直线两边交错排列、或者与一个直线成预定夹角间隔预定距离排列。

8.如权利要求1所述的系统，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元是二维成像单元，以及

图像构建模块进一步用于当所述第一成像单元和/或所述第二成像单元所拍摄的图像具有压缩变形时，拉伸所述第一成像单元和/或所述第二成像单元所拍摄的图像，以及，在对所述第一成像单元和/或所述第二成像单元所拍摄的图像进行拉伸后，分别根据所述第一成像单元所拍摄的图像和所述第二成像单元所拍摄的图像，构建所述基板的所述两个图像。

9.如权利要求8所述的系统，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元包括一个或多个线阵成像元件或面阵成像元件，所述一个或多个线阵成像元件或面阵成像元件按照矩阵排列、按照直线排列、在一个直线两边交错排列、或者与一个直线成预定夹角间隔预定距离排列。

10.如权利要求1所述的系统，其中

所述基板包括用于光伏电池或光伏模块中的图案化或结构化基板。

11.如权利要求1所述的系统，其中

所述照明单元包括一个或多个光源。

12.如权利要求1所述的系统，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元的数量根据所述基板的宽度、成像数值孔径、检测精度以及基板的缺陷的预计最大数量和最小检测尺寸而确定。

13.一种用于对基板的缺陷进行区分的方法，包括步骤：

将至少一个照明单元设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧，其中所述照明单元用于向所述基板照射光；

将至少一个第一成像单元和至少一个第二成像单元设置在所述基板的另一相对表面的外侧并使所述第一成像单元的光轴和所述第二成像单元的光轴之间的夹角大于零，其中所述第一和第二成像单元分别用于通过感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像；

设置至少一个图像构建模块，其中所述图像构建模块用于分别根据所述第一成像单元和所述第二成像单元所拍摄的图像，构建所述基板的两个图像；以及

设置至少一个图像处理模块，其中所述图像处理模块用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。

14.如权利要求13所述的方法，其中

所述图像处理模块进一步用于当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置相同或者其偏移量等于最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷，其中，所述最大偏移量等于所述基板的所述其中一个表面上的缺陷在分别根据所述第一成像单元所拍摄的图像和所述第二成像单元所拍摄的图像所构建的所述基板的两个图像中的位置的偏移量，以及，当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置不相同且其偏移量小于所述最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的内部的缺陷。

15.如权利要求13所述的方法，其中

所述照明单元包括第一照明单元和第二照明单元，其中

所述第一成像单元用于通过感测所述第一照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像，以及

所述第二成像单元用于通过感测所述第二照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像。

16.如权利要求13所述的方法，其中

所述照明单元向所述基板照射的光是漫射光。

17.如权利要求13所述的方法，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元用于以预定的时间间隔通过同时地或相隔预定时间长度地感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光来拍摄图像。

18.如权利要求13所述的方法，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元是线阵成像单元，其中，所述线阵成像单元包括一个或多个线阵成像元件，所述一个或多个线阵成像元件按照直线排列、沿着一个直线在所述直线两边交错排列、或者与一个直线成预定夹角间隔预定距离排列。

19.如权利要求13所述的方法，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元是二维成像单元，以及

图像构建模块进一步用于当所述第一成像单元和/或所述第二成像单元所拍摄的图像具有压缩变形时，对所述第一成像单元和/或所述第二成像单元所拍摄的图像进行去伸缩变形处理，以及，在对所述第一成像单元和/或所述第二成像单元所拍摄的图像进行去伸缩变形处理后，分别根据所述第一成像单元所拍摄的图像和所述第二成像单元所拍摄的图像，构建所述基板的所述两个图像。

20.如权利要求19所述的方法，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元包括一个或多个线阵成像元件或面阵成像元件，所述一个或多个线阵成像元件或面阵成像元件按照矩阵排列、按照直线排列、沿着一个直线在所述直线两边交错排列、或者与一个直线成预定夹角间隔预定距离排列。

21.如权利要求13-20中任意一个权利要求所述的方法，其中

所述基板包括用于光伏电池或光伏模块中的图案化或结构化基板。

22.如权利要求13-20中任意一个权利要求所述的方法，其中

所述照明单元包括一个或多个光源。

23.如权利要求13-20中任意一个权利要求所述的方法，其中

所述第一成像单元和所述第二成像单元的数量根据所述基板的宽度、成像数值孔径、检测精度以及基板的缺陷的预计最大数量和最小检测尺寸而确定。

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