Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

CN105745578B - 可数字曝光的柔版印刷元件和制造柔版印刷版的方法 - Google Patents

可数字曝光的柔版印刷元件和制造柔版印刷版的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105745578B
CN105745578B CN201480062739.3A CN201480062739A CN105745578B CN 105745578 B CN105745578 B CN 105745578B CN 201480062739 A CN201480062739 A CN 201480062739A CN 105745578 B CN105745578 B CN 105745578B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
flexographic printing
water
printing element
barrier layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201480062739.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105745578A (zh
Inventor
U·斯特巴尼
A·贝克尔
M·拜尔
D·里韦
A·赖夫施奈德
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ensis Germany GmbH
Original Assignee
Flint Group Germany GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Flint Group Germany GmbH filed Critical Flint Group Germany GmbH
Publication of CN105745578A publication Critical patent/CN105745578A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105745578B publication Critical patent/CN105745578B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/006Forme preparation the relief or intaglio pattern being obtained by abrasive means, e.g. by sandblasting
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • G03F7/202Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3057Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations characterised by the processing units other than the developing unit, e.g. washing units

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

用于制造柔版印刷版的可数字成像的柔版印刷元件,其包含有机可溶的凸纹形成层、水溶性氧阻隔层和水溶性可激光烧蚀掩模层。使用这样的柔版印刷元件制造柔版印刷版的方法,其包括使用水性和有机冲洗介质的两级冲洗程序。

Description

可数字曝光的柔版印刷元件和制造柔版印刷版的方法
本发明涉及用于制造柔版印刷版的可数字成像的柔版印刷元件(flexographicprinting element),其包含有机可溶性凸纹形成层(relief-forming layer)、水溶性氧阻隔层和水溶性可激光烧蚀掩模层。本发明还涉及使用这样的柔版印刷元件制造柔版印刷版的方法,其包括使用水性和有机冲洗介质的两级冲洗程序。
可数字成像的柔版印刷元件原则上是已知的。它们至少包含尺寸稳定的载体、可光聚合层和可数字成像层。可数字成像层可以例如是可激光烧蚀层、可使用喷墨印刷机写入的层或热敏层;可激光烧蚀层最常见。
可激光烧蚀层,也称作LAMS(可激光烧蚀掩模系统)层在光化光的波长下不透明并通常包含粘合剂以及至少一种红外吸收剂,例如炭黑。炭黑也使该层不透明。利用红外激光,可以将掩模写入该可激光烧蚀层中;换言之,在其被激光束射中的位置,该层分解并暴露出下方的可光聚合层。可激光烧蚀掩模层可直接施加到可光聚合层上,或在可光聚合层与可激光烧蚀掩模层之间可存在其它层,如阻隔层。例如,在US 5,262,275或EP-A 1 069475中公开了具有IR烧蚀掩模的柔版印刷元件的成像的实例。
由可光聚合、可数字成像的柔版印刷元件开始,如下制造柔版印刷版:在已将掩模写入可数字成像层中后,用紫外线辐射或UV/VIS辐射经掩模曝光该柔版印刷元件。在不再被掩模遮盖的区域中,可光聚合层发生聚合,而在被遮盖区域中不存在聚合。在曝光后,除去掩模的残留物以及可光聚合层的未聚合部分。这可以使用一种或多种溶剂或借助热进行。如果使用溶剂,存在后续干燥步骤,且所得柔版印刷版通常还要后处理,例如通过用UVA和/或UVC光曝光。
在可数字成像的柔版印刷元件的情况下,主曝光借助UV或UV/VIS辐射进行,通常在大气氧存在下。
主曝光中的氧气的存在已知对印刷凸纹元件的形式,尤其是对细网目(halftone)元件的形式具有非常显著的影响。众所周知,分子氧是双自由基,因此能与其它自由基反应。由于分子氧在紫外线引发的自由基聚合过程中的存在,该氧中断可光聚合层表面上的自由基链反应,结果凸纹元件的表面不再充分聚合。位于该表面更下方的可光聚合层的区域受到较少影响。在聚合后该层的显影过程中,尚未充分聚合的层也被除去。该凸纹元件因此小于它们实际上应有的大小并具有圆角。例如,在EP 2 128 702 A1,第15页,图1中图解这一效应。
应该从根本上消除在柔版印刷元件的曝光过程中氧气的破坏性影响,以使想要的凸纹元件完全聚合至表面并因此可以成像该版上的相对精细细节,并可以在实心区中成像非常精细结构。这特别有助于改进墨水转移和墨水铺设(ink lay)。
因此已提议在主曝光过程中保护可光聚合层免受氧气影响。
原则上可以在惰性气体下或使用真空晒版架进行曝光,但是这种程序需要额外的装置费用和/或复杂性,因此通常要避免。
还已提议借助附加阻隔层保护柔版印刷元件中的可光聚合层免受大气氧影响。这样的阻隔层意在防止或至少最大限度减少氧气扩散到可光聚合层中。
US 5,262,275公开了用于制造柔版印刷版的柔版印刷元件,其包含载体、可光聚合层、施加在其上的阻隔层和施加在其上的可激光烧蚀掩模层。该阻隔层一方面意在防止组分,如单体,从可光聚合层迁移到可激光烧蚀层中,另一方面在柔版印刷元件的曝光过程中保护可光聚合层免受大气氧影响。提出可光聚合和不可光聚合的阻隔层。为不可光聚合阻隔层提出的材料包括水溶性粘合剂和可溶于有机粘合剂的粘合剂,此类粘合剂是聚酰胺、聚乙烯醇、羟烷基纤维素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、两性互聚物及其组合。该阻隔层的厚度为0.25微米至76微米,优选0.38至64微米。
WO 2012/145111 A1公开了用于制造柔版印刷版的可光聚合的柔版印刷元件,其包含载体、可光聚合层、施加在其上的阻隔层和施加在其上的可激光烧蚀层。该阻隔层具有小于6.9*10-9m2/s的O2扩散系数和至少50%,优选至少75%的光学透明度。该阻隔层的厚度为1至100微米,优选1至20微米。为该阻隔层提出的材料包括水溶性粘合剂和可溶于有机粘合剂的粘合剂,此类粘合剂是聚酰胺、聚乙烯醇、羟烷基纤维素、聚乙烯基吡咯烷酮、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、两性互聚物、乙酸丁酸纤维素、烷基纤维素、缩丁醛、环化橡胶或其组合。
US 2012/0164584 A1公开了使用具有可激光烧蚀层的可数字成像的柔版印刷元件制造柔版印刷版的方法。在已将掩模写入可激光烧蚀层后,在柔版印刷元件的上表面施加阻隔层,意味着其不仅覆盖可光聚合层的暴露区,还覆盖可激光烧蚀层本身仍存在的那些区域。此后暴露在紫外光下。为该阻隔层提出的材料包括水溶性粘合剂和可溶于有机溶剂的粘合剂,此类粘合剂是聚酰胺、聚乙烯醇、羟烷基纤维素、聚乙烯基吡咯烷酮、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、两性互聚物、乙酸丁酸纤维素、烷基纤维素、缩丁醛、环化橡胶或其组合。油是另一选项。该阻隔层的厚度为1至100微米,优选1至20微米。阻隔层的施加意味着在成像和曝光之间的额外方法步骤,和因此额外的成本和复杂性。
US 8,492,074 B2公开了使用具有可激光烧蚀层的可数字成像的柔版印刷元件制造柔版印刷版的方法。在此也在已将掩模写入可激光烧蚀层后,在柔版印刷元件的正面施加阻隔层,因此不仅覆盖可光聚合层上的暴露位置,还覆盖可激光烧蚀层本身仍存在的区域。此后进行紫外线曝光。该阻隔层包含至少两种不同树脂,该树脂优选选自聚乙烯基吡咯烷酮、紫胶、聚乙烯醇缩丁醛、聚偏二氯乙烯或氯乙烯共聚物。该阻隔层的O2扩散系数优选小于6.9*10-9m2/s。US 8,492,074 B2进一步公开了在可光聚合层和可激光烧蚀掩模层之间也施加这种类型的阻隔层的可能性。
EP 2 284 612 A1公开了可数字成像的柔版印刷元件,其包含载体、水显影性可光聚合层、具有0.2微米至2微米厚度的氧阻隔层和可借助激光写入并具有0.5微米至5微米厚度的热敏掩模层。在已将掩模写入热敏层后并在已发生依图像曝光后,已曝光的柔版印刷元件在单级操作中使用水性冲洗介质显影。该氧阻隔层可以是水溶性或非水溶性的。用冲洗设备的刷子机械除去非水溶性层。热敏层中的粘合剂也可以是水溶性或非水溶性的。
WO 2005/101130 A1公开了用于制造柔版印刷版的多层掩模薄膜。该掩模薄膜包含载体、红外敏感层、例如红外烧蚀层,以及任选其它层,例如阻隔层或释放层(releaselayer)。该掩模薄膜可以用激光成像,随后层压到可光聚合的柔版印刷元件上,该掩模薄膜的载体层构成最上层。该掩模层组装件随后在其整个面积上曝光,存在经载体层曝光或在曝光前除去载体层的选项。在曝光后,适当地可以与或不与掩模层本身一起除去载体膜(如果尚未除去),并且已曝光的柔版印刷元件可照常显影。
层压工艺,如阻氧膜的后续施加或预先曝光的掩模薄膜的后续施加不可取,因为在各层压过程中可能由于例如粉尘粒子夹杂或空气夹杂而出现缺陷。任何缺陷,无论多小,都会使柔性版不可用。此外,层压或阻隔层的后续施加是柔版印刷元件加工中的附加工作步骤,因此从使用者的角度看极不合意。
此外,在现有技术中,例如从WO 2012/010459 A1或WO 2008/135865 A2中获知专业曝光技术,其中使用强UVA-LED辐射使柔版印刷元件曝光。高曝光能量和随后的快速聚合使破坏性的氧气的作用最小化,并甚至可以成像柔版印刷版上的精细表面结构。但是,该曝光装置比标准商业UVA管曝光装置昂贵得多。此外,精细细节的成像需要相对较长的曝光时间,因此进一步阻碍这种技术的市场接受度。
根据现有技术的具有阻隔层的常规可数字成像的柔版印刷元件通常包含可溶于有机冲洗介质的可光聚合的凸纹形成层。已曝光的柔版印刷元件通常用有机溶剂混合物一步冲洗,在此除去可数字成像层的残留物、阻隔层和凸纹形成层的未聚合部分。所用冲洗介质的主要组分通常包含非极性烃作为溶剂,和一种或多种中等极性醇作为助溶剂。添加醇的目的是也溶解阻隔层和可激光烧蚀层的略微更极性的组分。
在持续进行的操作中,由于醇比烃高的挥发性,该冲洗介质的组成改变,对冲洗结果的质量有害。因此必须不断监测冲洗溶液的组成。当冲洗溶液失效并通过蒸馏再生时,必须重新配制该组合物。此外,冲洗溶液的气味通常令人不快,这主要由中等极性醇造成。此外,在冲洗设备的运行过程中,来自可激光烧蚀掩模层的炭黑造成逐渐沾污,这造成频繁的设备清洗。非常希望提供仅使用烃冲洗介质并且需要很少维护工作和成本的冲洗程序。
本发明的一个目的是制造提供高分辨率、高色调值范围和表面结构化可能性并可容易和在短时间内加工成柔版印刷版的可数字成像的柔版印刷元件。
已经令人惊讶地发现,如果在可数字成像的柔版印刷元件中将可溶于有机溶剂或溶剂混合物的可光聚合层与水溶性阻隔层和水溶性LAMS层组合并借助两级程序冲洗已曝光的柔版印刷元件,可以满足所述要求。
已经相应地发现用于制造柔版印刷版的可数字成像的可光聚合柔版印刷元件,其包含至少-以指定顺序彼此叠加布置的-
(A)尺寸稳定的载体,
(B)至少一个可光聚合的凸纹形成层,其可分散或可溶于有机溶剂并具有300微米至6000微米的层厚度,其包含至少一种弹性体粘合剂、烯键式不饱和单体和光引发剂或光引发剂体系,
(C)对于氧的阻隔层,其为UVA光可透的并具有0.3微米至5微米的层厚度,
(D)具有0.3微米至5微米的层厚度的可激光烧蚀掩模层,其包含至少一种弹性体粘合剂和吸收UV/VIS光的材料,层厚度和/或所述吸光材料的量使得所述层对UVA辐射的光学密度为2至5,和
(E)任选可移除顶膜,
其中阻隔层(C)和可激光烧蚀掩模层(D)都是水溶性或水分散性的。
在本发明的另一方面中,发现使用所述柔版印刷元件制造柔版印刷版的方法,所述方法包含至少下列方法步骤:
(0)如果存在,除去顶膜(E),
(1)借助IR激光器将掩模写入可激光烧蚀掩模层(D)中,
(2)用UVA辐射经形成的掩模曝光所述成像的柔版印刷元件,
(3)使用包含至少90重量%水的水性冲洗介质除去可激光烧蚀掩模层(D)的残留物和阻隔层(C),
(4)使用有机冲洗介质除去凸纹形成层(B)的未聚合部分,
(5)干燥所得柔版印刷版,和
(6)用UVA和/或UVC光进行后处理。
在该方法的一个优选实施方案中,该柔版印刷元件是平坦元件且方法步骤(3)和(4)使用双区洗涤器进行。
附图索引:
图1 双区洗涤器的图示
图2 来自对比例1的柔性版的显微图像
图3 来自本发明的实施例1的柔性版的显微图像
图4 来自本发明的实施例2的柔性版的显微图像
图5 来自本发明的实施例4的柔性版的显微图像
关于本发明,特别可以观察到下列:
在下文中,对已发生交联的准备好印刷的印刷模版(form)使用术语“柔版印刷版”、“柔性版”或“版”。术语“柔版印刷元件”照惯例用于制造柔版印刷版或模版用的可光聚合原材料。
本发明的柔版印刷元件包含彼此叠加布置的至少下列层:尺寸稳定的载体(A)、凸纹形成层(B)、阻隔层(C)和可激光烧蚀掩模层(D)。当然也可能存在其它层。实例包括顶膜(E)以及粘结层。
本发明的柔版印刷元件也可以是筒形柔版印刷元件(套筒)或板形柔版印刷元件。
尺寸稳定的载体(A)
本发明的柔版印刷元件以原则上已知的方式包含尺寸稳定的载体。载体的性质取决于柔版印刷元件的性质。
如果本发明的柔版印刷元件包含用于制造柔版印刷版的片状结构,尺寸稳定的载体(A)以原则上已知的方式包含通常具有50微米至300微米的厚度的尺寸稳定的载体片。该载体片的材料可包含例如钢或铝或塑料,例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯。尤其合适的是具有100至200微米厚度的PET片。
如果本发明的柔版印刷元件是筒形板(套筒),合适的尺寸稳定的载体不仅包括圆形聚酯套筒,还包含玻璃纤维增强的聚酯套筒或其它圆形载体材料。尺寸稳定的载体(A)可任选已用常规增粘层处理。
凸纹形成层(B)
该柔版印刷元件进一步包含至少一个可光聚合的凸纹形成层(B),其可分散或可溶于有机溶剂并具有300微米至6000微米的层厚度,包含至少一种弹性体粘合剂、烯键式不饱和单体和光引发剂或光引发剂体系。除指定组分外,还可任选存在其它组分,例如增塑剂。该弹性体粘合剂可以例如是热塑性-弹性体嵌段共聚物,例如苯乙烯-丁二烯或苯乙烯-异戊二烯嵌段共聚物或乙烯-丙烯-二烯共聚物。用于凸纹形成层的有机溶剂可溶或至少可分散的组合物原则上是根据柔版印刷版的所需性质选择适当组合物的技术人员已知的。
本发明的柔版印刷元件当然也可包含彼此叠加的多个可光聚合的凸纹形成层,这些层可分散或可溶于有机溶剂。具有可光聚合的凸纹形成层的多层构造的柔版印刷元件也是技术人员已知的。
可以借助所谓的溶解度参数以原则上已知的方式描述有机溶剂的极性(Hansensolubility parameters,J.Appl.Polym.Sci,5(15),339(1961))。在本发明的一个优选实施方案中,凸纹形成层(B)是以<11(cal/cm3)1/2的溶解度参数可溶于有机溶剂或溶剂混合物的层。
在一个特别优选的实施方案中,凸纹形成层(B)包含可溶于纯烃或烃混合物的层。
所述至少一个凸纹形成层(B)可以直接施加在尺寸稳定的载体(A)上。在凸纹形成层(B)与尺寸稳定的载体(A)之间可任选布置其它层。实例包括粘结或粘合层,以及可压缩的和弹性底层。
对于氧的水溶性阻隔层(C)
在可光聚合的凸纹形成层(B)上施加UVA光可透的水溶性或水分散性氧阻隔层。
术语“UVA光可透的”不当然排除会吸收UVA光的某些部分的可能性。但是,必须确保在柔版印刷元件的UVA曝光过程中仍可实现凸纹形成层(B)的聚合。
阻隔层(C)的功能是在柔版印刷元件的全面积曝光过程中防止氧气随后扩散到凸纹形成层(B)中。该阻隔层的透氧率应优选小于100,优选小于20(cm3x100μm)/(m2x d xbar)。
阻隔层(C)包含至少一种水溶性或水分散性粘合剂。当然也可以使用两种或更多种不同粘合剂的混合物。原则上可以使用可用于实现低透氧率并更特别可以使透氧率低于上示值的任何水溶性粘合剂。阻隔层(C)的粘合剂可以与掩模层(D)的粘合剂相同或其可以是不同粘合剂。
本发明的柔版印刷元件的数字成像通常使用包含转鼓以容纳柔版印刷元件的激光装置进行。如果该柔版印刷元件为板形,则其在安装到激光鼓中时必须弯曲。依图像曝光通常使用平板曝光装置进行,因此该柔版印刷元件在成像后必须再弯直。在安装到转鼓中的过程中,阻隔层(C)绝不能破裂,并且在卸下并弯直后绝不能形成任何折痕、波纹或其它破坏性结构。
在一个优选实施方案中,阻隔层(C)中的水溶性或水分散性粘合剂因此是弹性体粘合剂。
合适的弹性体粘合剂的实例包括聚乙烯醇、部分水解和高度水解的聚乙酸乙烯酯,尤其是部分水解和高度水解的聚(环氧乙烷-乙酸乙烯酯)接枝共聚物或水溶性聚(乙烯-乙烯醇)共聚物。
“部分水解”对本发明而言是对包含乙酸乙烯酯单元且其中最初存在的乙酸乙烯酯单元的40摩尔%至70摩尔%已水解形成乙烯醇单元的均聚物和共聚物的用语。“高度水解”对本发明而言意在表示包含乙酸乙烯酯单元且其中最初存在的乙酸乙烯酯单元的超过70摩尔%已水解产生乙烯醇单元的均聚物和共聚物。
作为粘合剂,可以有利地使用可生物降解的聚合物,实例是高度水解的聚乙酸乙烯酯或聚乙酸乙烯酯共聚物。
在本发明的一个特别优选的实施方案中,该粘合剂是具有40摩尔%至90摩尔%的水解度的聚乙酸乙烯酯。这种聚合物含有乙酸乙烯酯单元和由乙酸乙烯酯单元通过水解形成的乙烯醇单元,并可以以各种水解度购得。如果水解度大于90摩尔%,该层通常太脆。如果水解度小于40摩尔%,阻氧作用通常太低或获得足够阻氧作用所需的层厚度太高,由此降低本发明的柔版印刷元件的分辨率。
除一种或多种水溶性粘合剂外,阻隔层(C)还可包含其它组分。实例包括增塑剂、稳定剂、染料-条件是它们不过度降低在UV范围内的透光度-或填料。通过使用增塑剂,可以改进阻隔层(C)的弹性。如果存在,填料量通常为阻隔层(C)的所有组分的总量的5至20重量%。
阻隔层(C)的厚度通常为0.3微米至5微米。在低于0.3微米的层厚度下,难以实现均匀一致的施加和足够一致的阻隔作用。在高于5微米的层厚度下,可能由于UVA光的提高的散射效应而降低成像精度。层厚度优选为0.5微米至3微米,更优选1微米至2微米。可以例如借助剖面的显微图像测量层厚度,或它们可以由涂施速率和涂施材料的密度计算。
水溶性可激光烧蚀掩模层(D)
在阻隔层(C)上施加水溶性可激光烧蚀掩模层(D)。使用合适的激光将待印刷的信息写入可激光烧蚀掩模层(D)。
掩模层(D)包含至少一种水溶性或水分散性弹性粘合剂。当然也可以使用两种或更多种不同粘合剂的混合物。
合适的水溶性或水分散性粘合剂的实例包括部分水解或高度水解的聚乙烯基酯,例如部分水解的聚乙酸乙烯酯,聚乙烯醇衍生物,如部分水解的乙酸乙烯酯/环氧烷接枝共聚物,例如乙烯-乙烯醇共聚物、马来酸酐共聚物,例如马来酸酐和异丁烯或马来酸酐和乙烯基甲基醚的共聚物,乙酸乙烯酯和巴豆酸的共聚物、水溶性聚酯、水溶性聚醚、乙烯基吡咯烷酮的均聚物和共聚物、乙烯基己内酰胺、乙烯基咪唑、水溶性聚丙烯酰胺、水溶性聚氨酯、水溶性聚酰胺或所述聚合物的混合物。
关于掩模层(D)的机械性质,必要的要求与阻隔层(C)基本相同。上文已略述了细节。因此,关于掩模层(D),弹性体粘合剂仍是优选的。特别合适的粘合剂的实例包括部分水解或高度水解的聚乙酸乙烯酯和部分水解或高度水解的乙酸乙烯酯/环氧烷接枝共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物或水溶性聚酰胺。
可生物降解的聚合物可有利地用作粘合剂,例如高度水解的聚乙酸乙烯酯或聚乙酸乙烯酯共聚物。
可激光烧蚀掩模层(D)不仅包含粘合剂,还包含UV/VIS吸收材料,层厚度和/或所述吸光材料的量使得所述层对UVA辐射的光学密度为1至5。UVA辐射范围包括波长为300纳米至400纳米的光。光学密度是该层在这一波长范围内的阻光率(lightintransmissibility)的对数系数。因此,在测量光学密度时,不测量在特定波长下的阻光率的独立值;而是测量在指定波长范围内的阻光率的平均值。通常使用市售密度计(例如来自x-rite)测量光学密度,在测量前选择波长范围。对本发明而言,对该光学密度引述的所有测量值涉及UVA范围,即300至400纳米的范围。
掩模层(D)的优选光学密度为2至5。高光学密度确保被掩模覆盖的凸纹形成层的区域在全面积暴露在UVA光下的过程中不发生聚合。
细碎炭黑、石墨或炭黑纳米粒子尤其适合作为吸光材料。它们在近IR范围内极好吸收,因此在用IR激光器,例如IR激光二极管(830纳米)或Nd-YAG激光器(1064纳米)曝光时,它们确保快速成像。但是,当然,可激光烧蚀掩模层(D)还可包含其它颜料基UV或IR吸收剂或可溶染料。可用的染料的实例是酞菁和取代酞菁衍生物、花青染料和部花青染料或多次甲基染料或偶氮染料。
吸光材料的量通常为可激光烧蚀掩模层的所有组分的量的10重量%至50重量%。
可激光烧蚀掩模层(D)可任选进一步包含增塑剂、稳定剂或其它辅助剂,例如乳化剂、流动控制助剂或UV吸收剂。
当使用基于聚乙烯醇的粘合剂时,可以有利地通过添加合适的增塑剂,如二醇或聚乙二醇或其它多元醇来稳定该掩模层。对交联而言,非常合适的稳定剂的实例包括Xyligen-钾或相应的铝盐。
为了改进掩模层(D)的操作质量,也可以对其施以化学或物理部分交联。如果例如使用聚乙烯醇基粘合剂,可以通过与乙二醛反应提高耐指性(finger resistance)。该层借助电子束的部分交联也可以实质性改进该层的操作质量或其粘合特征。
可激光烧蚀掩模层(D)的厚度通常优选为0.3微米至5微米。在低于0.3微米的层厚度下,难以实现足够的光学密度。在大于5微米的层厚度下,该元件的激光灵敏度太低,需要长激光成像时间。掩模层的激光灵敏度(作为烧蚀1平方厘米的层所需的能量测量)应该为0.5至4mJ/cm2。该层厚度优选为1微米至3微米。
顶膜(E)
作为最上层,本发明的柔版印刷元件可任选包含可移除顶膜(E),其尤其用于保护该柔版印刷元件。在该柔版印刷元件用于制造柔版印刷版之前剥离该顶膜。特别合适的可移除顶膜(E)包括具有中等或低粗糙度的PET膜。典型的Rz值应该低于1微米。例如,可以使用A PET膜。
在板形柔版印刷元件的情况下,通常存在顶膜(E)。在筒形柔版印刷元件的情况下,通常不存在顶膜(E),即本发明的筒形柔版印刷元件的最上层是可激光烧蚀掩模层(D)。
本发明的柔版印刷元件的制造
本发明的平坦柔版印刷元件以原则上已知的方式通过在挤出机中熔融可光聚合层的组分、混合它们并将可光聚合材料的熔体经狭缝模头排出到压延机的辊隙(nip)中制造。在一个压延辊上传送载体片,其任选被其它层,例如被粘结层涂覆,在另一压延辊上传送预制顶部元件。通过压延将尺寸稳定的载体片(A)、可光聚合层(B)和顶膜(E)的层压件与层(C)和(D)接合在一起。
该顶部元件包含已被可激光烧蚀掩模层(D)和阻隔层(C)涂覆的顶膜(E)。在该顶部元件的制造中,首先将可激光烧蚀掩模层(D)施加到顶膜(E)上。这种施加可以由溶液、由熔体或通过喷涂进行。随后在已接合到顶膜(E)上的可激光烧蚀掩模层(D)上外覆阻隔层(C)。
为了防止首先施加的掩模层(D)在被阻隔层外覆时的初期溶解(incipientdissolution),可能必须改变浇铸溶液的溶剂组成或在其被外覆之前通过交联稳定可激光烧蚀掩模层(D),以防止外覆过程中的破坏。这可以例如通过使用聚乙烯醇作为可激光烧蚀掩模层(D)的粘合剂和通过添加乙二醛以使其轻微交联实现。
在一个备选实施方案中,掩模层(D)和阻隔层(C)也可以各自单独涂布到片材上。在这种情况下将掩模层(D)施加到稍后的顶膜(E)上,而阻隔层(C)施加到临时辅助片材上。在已涂布后,这两个片材经层侧(layer sides)彼此层压,并移除临时辅助片材。
在另一实施方案中,可以将阻隔层(C)施加到临时辅助片材上,引入上述挤出程序中的压延机中并相应地接合到可光聚合层上。随后,从所得元件上剥离临时辅助片材,阻隔层留在可光聚合层上。随后层压上涂有掩模层(D)的顶膜。
如果本发明的柔版印刷元件是筒形柔版印刷元件,首先将可光聚合层施加到圆筒载体上,优选无缝施加。相应程序是技术人员已知的。随后,在该可光聚合层上施加阻隔层(C)和可激光烧蚀掩模层(D)。这可以例如以原则上已知的方式通过辊涂、环形涂布或喷涂进行。
将本发明的柔版印刷元件加工成柔版印刷版
使用所述可数字成像的柔版印刷元件制造柔版印刷版的本发明的方法包括方法步骤(1)至(6)。该方法当然也可任选包含其它方法步骤。如果存在顶膜(E),在方法步骤(1)前的方法步骤(0)中从该柔版印刷元件上移除顶膜。
方法步骤(1)
在方法步骤(1)中,以原则上已知的方式,借助IR激光器将掩模写入可激光烧蚀掩模层(D)中。用于写入掩模的激光装置是技术人员已知的并可购得。原则上可以使用所有常规市售激光器,主要是外鼓式激光器,以及平板曝光装置。
在本发明的一个实施方案中,方法步骤(1)可以使用包含转鼓的激光装置进行。将板形或筒形柔版印刷元件安装到该鼓上或拉过(pulled over)该鼓,载体朝向该鼓,以进行成像。如果该柔版印刷元件是板形元件,不言而喻的是,在这种情况下该柔版印刷元件弯曲且这些层在此程序中在一定程度上拉伸。
方法步骤(2)
在方法步骤(2)中,以原则上已知的方式经形成的掩模使成像的柔版印刷元件暴露在UVA辐射下。在此,可光聚合层在不再被掩模遮盖的区域中发生聚合,而在遮盖区域中不存在聚合。在曝光过程中,通过阻隔层(C)保护可光聚合层免受随后扩散的氧气影响。
用于曝光板形和筒形柔版印刷元件的装置原则上是技术人员已知的。该柔版印刷元件可以例如用常规市售管曝光装置曝光。不需要使用UV-LED高能量带,但是它们可随时使用。如果本发明的柔版印刷元件是筒形柔版印刷元件,当然必须在圆形曝光装置中进行区域UVA曝光(areal UVA exposure)。
方法步骤(3)和(4)
根据本发明,借助包含方法步骤(3)和(4)的两级程序冲洗已曝光的柔版印刷元件。
在第一方法步骤(3)中,使用水性冲洗介质除去可激光烧蚀掩模层(D)的残留物以及阻隔层(C)。该水性冲洗介质包含至少80重量%水,优选至少90重量%。除水外,还可能使用水混溶溶剂,例如醇,如甲醇、乙醇、正丙醇或异丙醇。该水性冲洗介质优选仅包含水作为其溶剂。可以将辅助该溶解过程的表面活性剂以通常0.1重量%至10%的比例添加到水中。
在第二方法步骤(4)中,使用有机冲洗介质除去凸纹形成层(B)的未聚合部分。该有机冲洗介质包含至少一种有机溶剂或有机溶剂混合物。当然可以使用常规市售有机柔版冲洗介质。例如可以使用EP 332 070 A2中描述的有机柔版冲洗介质。
在本发明的一个优选实施方案中,该有机冲洗介质包含至少80重量%,优选至少90重量%的非极性溶剂作为其溶剂,该冲洗介质特别优选仅含非极性溶剂作为其溶剂。合适的非极性溶剂优选具有至少150℃的沸点。合适的非极性溶剂的实例包括烃或烃混合物或酯。该烃特别可以是高沸点脂族、脂环族或芳族烃级分,特别是具有160至220℃的沸程的那些。特别优选的是具有在160至220℃范围内的沸程的烃溶剂,其包含链烷和环烷烃(例如D 60)。这种烃溶剂无味,容易通过蒸馏再生并具有在洗涤操作的过程中基本不变的组成。出于安全原因,应该向该烃溶剂中加入抗静电剂。相应的添加剂是技术人员已知的。
冲洗在本发明的一个实施方案中可以使用市售冲洗设备进行。用于冲洗板形或筒形已曝光的柔版印刷元件的冲洗设备原则上是技术人员已知的。如果本发明的柔版印刷元件是板形柔版印刷元件(制造柔版印刷版),优选在平板洗涤器(flat washers)中进行冲洗。如果本发明的柔版印刷元件是筒形柔版印刷元件(用于制造套筒),在圆形洗涤器中进行冲洗。
在第一冲洗单元中,使用所述水性冲洗介质进行方法步骤(3),在第二单元中,使用所述有机冲洗介质进行方法步骤(4)。
在此可以在进行方法步骤(3)后进行柔版印刷元件的中间干燥,以除去水性冲洗介质的任何附着残留物和防止污染方法步骤(4)的有机冲洗介质,否则可能出现泡沫或洗涤器沾污的问题。在此值得推荐的是,柔版印刷元件的正面和底面都充分脱除所有痕量水。可以使用例如传统空气循环干燥器、IR或微波发射器或通过用来自独立喷嘴或连续气刀的压缩空气吹气除去水性冲洗介质的残留物。由于该凸纹形成层是有机可溶的,其不会在水中溶胀。
在板形柔版印刷元件的情况下,方法步骤(3)和(4)可以有利地使用具有两个洗涤区的单个冲洗单元(被称作双区洗涤器)进行。
该双区洗涤器包含至少一个第一洗涤单元(W1)、中间干燥单元(Z)和第二洗涤单元(W2),它们各自通过用于将柔版印刷元件从一个单元送往下一单元的输送装置(T)互相连接。洗涤单元(W1)用于实施方法步骤(3),即用水性冲洗介质冲洗已曝光的柔版印刷元件,洗涤单元(W2)用于实施方法步骤(4),即用有机冲洗介质冲洗已曝光的柔版印刷元件。
这两个洗涤单元(W1)和(W2)在每种情况下是平板洗涤器,这些是以平面状态处理板形柔版印刷元件的洗涤单元。待处理的柔版印刷元件在底面–即尺寸稳定的载体–朝下的情况下插入双区洗涤器。柔版印刷元件可以借助转轴或链(它们安置在洗涤单元(W1)和(W2)和中间干燥单元(Z)的任一侧上并例如借助传输带将柔版印刷元件悬挂在其中)输送经过该双区洗涤器。链传动的优点在于该柔版印刷元件不是必须水平传输。例如,柔版印刷元件可以以轻微梯度引入冲洗区并可以在最后借助轻微向上的斜率导出。由此防止将冲洗介质夹带出该单元。
中间干燥单元(Z)的作用是防止来自第一洗涤单元(W1)的痕量水进入第二洗涤区,否则可能出现泡沫或洗涤器沾污的问题。已经提到可能的干燥技术。
为了机械辅助洗涤单元(W1)和(W2)中的冲洗操作,该平板洗涤器可以以原则上已知的方式包含各种刷子或绒辊(plush roller)。冲洗也可以无接触地进行——通过简单冲洗或用水喷洒;对于洗涤单元(W2),简单冲洗通常不可取。考虑的刷子包括圆刷、锅刷(potbrushes)、锥形刷或滚筒刷。该刷子、辊或喷头可以在板的宽度上作圆周运动或振动。也可以通过施加超声辅助该溶解程序。在洗涤区的最后,可必须用干净的冲洗介质再清洁柔版印刷元件的正面和底面。
来自第一洗涤区(W1)的废水可任选收集在罐中并循环直至达到最大固体分数。该固体分数不应超过5重量%。如果将洗涤水循环,建议安装过滤器以除去分散的物质。可以通过恒温器调节水温。其应在15℃至40℃的范围内调节。
图1图示包含第一洗涤区(W1)、中间干燥区(Z)和第二洗涤区(W2)的双区洗涤器的一个实施方案。洗涤区(W1)包含用于除去可激光烧蚀掩模层和阻隔层的圆刷(1)。可以借助布置在该版上方和下方的屏障刷(barrier brushes)(2)实现洗涤区(W1)与中间干燥区(Z)的划分。中间干燥用气刀(3)进行。第二洗涤区(W2)包含用于洗掉凸纹层的圆刷(4)。在第二洗涤区的最后,可存在附加清洗刷(5)以用新鲜溶剂后清洗。借助输送装置(T)(未显示在该附图中)将柔版印刷元件(6)传输经过双区洗涤器。
方法步骤(5)和(6)
在方法步骤(5)中,所得柔版印刷版以原则上已知的方式干燥,并在方法步骤(6)中以原则上已知的方式用UVA和/或UVC光后处理。
本发明的柔版印刷元件和本发明的方法的优点:
本发明的柔版印刷元件能够依图像转移超细结构。该掩模层可以用各种激光器成像。在830纳米或900纳米区域发射的二极管激光器或在1064纳米发射的纤维激光器非常合适。该掩模层可以以2000dpi至10 000dpi的分辨率成像。因此,该柔版印刷版的图像元件的表面可以几乎无限结构化,以根据所需用途优化印刷性能。
在柔版印刷中用于增加墨水转移或用于使墨膜更均匀转移的表面结构是技术人员已知的。例如可获自Esko的下列丝网非常合适:HD Flexo Screen MG 25、MG 2x3和MCWSI。在这种情况下周期性地打开和关闭各个激光点,由此在该柔性版的表面上生成精细结构,如规则点、线或其它几何结构。这些表面结构的尺寸(<20μm)小于典型网目点的尺寸,意味着不仅可以为区域(areal)图像元件,也可以为各个网目点的表面提供精细结构。
或者,本发明的柔版印刷元件也可用于类似地制造表面结构。如果阻隔层(C)例如包含在微米或亚微米范围内的填料,则形成粗糙表面。在区域UVA曝光过程中,可以将这种表面结构转移到凸纹形成层上。因此,为了优化本发明的柔版印刷元件的墨水转移性质,可能必须为特定印刷用途制造具有受控粗糙度的阻隔层。代替冲洗,本发明的柔版印刷元件也可以热显影,在这种情况下省略干燥步骤。借助两级法冲洗与单级冲洗相比确实需要一个额外的方法步骤。但是,对于两级操作,有一系列其它相关优点,它们大大有助于补偿这些缺点。
由于在第一步骤中单独除去掩模层,在第二洗涤步骤中没有污染有机冲洗介质。此外,仅含烃的一种冲洗介质足以在第二冲洗步骤中洗掉凸纹形成层。对于该有机冲洗溶液,不需要任何中等极性醇(其通常具有不良气味)。该有机冲洗介质的再加工因此比具有来自炭黑的额外污染的多组分冲洗介质的情况中容易得多。
此外,对于阻隔层(C)和对于掩模层(D),可以使用可生物降解的水溶性聚合物,例如部分水解或高度水解的聚乙酸乙烯酯或聚乙酸乙烯酯共聚物。因此允许来自第一洗涤区的废水直接进入废水,而不需要后处理。
在下列实施例中更详细描述本发明。
对比例1:
可光聚合层: 可溶于有机冲洗介质
对于氧的阻隔层: -
可激光烧蚀掩模层: 可溶于有机冲洗介质
使用具有有机显影性可光聚合层以及同样可在有机冲洗介质中除去的可激光烧蚀掩模层的商业可数字成像的柔版印刷元件(ACE 114D)。该柔版印刷元件没有氧阻隔层。掩模层的涂布重量为2.6克/平方米,使用TD 904密度计测得的掩模层在UVA范围内的光学密度为4.1。
首先对该柔版印刷元件施以初步反向曝光10秒。除去顶膜。在初步曝光后,使用IR激光器将试验图形(motif)写入柔版印刷元件的掩模层中。由于剩余掩模层,非图像区在此仍UV不可透,而由于在图像区中除去掩模,使得能够借助光化辐射固化可光聚合的凸纹层。使用来自Esko的CDI Spark 4835烧蚀激光系统进行数字掩模的成像,所用掩模分辨率为4000dpi且该激光器配有高分辨率光学选项(Pixel+)。使用来自EskoArtwork的HD Flexo2.0作为RIP软件。该试验图形含有在47L/cm的分辨率下具有1%至99%的色调值的网目楔(halftone wedge),以及具有和没有表面结构的各种全面积元件。使用MG 25和MC WSI丝网作为表面结构。通过考虑对于不同激光功率在不同能量下40%色调值的烧蚀结果,通过用来自X-Rite的Peret Flex3Pro密度计的色调值测量结果测定激光能量。如果测得的色调值对应于原始值,则整个试验图形在此能量下成像。随后将此处所述的柔版印刷元件安装到激光鼓上并用3.2J/cm2的确定能量成像。
相应制成的柔版印刷元件随后通过形成的掩模暴露在UVA辐射下14分钟(F III曝光装置,Flint Group)。
该柔版印刷元件随后使用由大约70重量%烃和大约30重量%醇构成的商业有机冲洗介质(A)冲洗(冲洗速度240mm/min,F Ill洗涤器)。在这种情况下除去掩模层的残留物和凸纹形成层的未光聚合的部分。
在冲洗操作后,根据产品专有的推荐,仍含有溶剂的版在60至65℃下干燥90分钟,然后在F Ill曝光装置的后曝光单元中用UVA和UVC光后曝光。后曝光的作用首先是转化仍有反应性的残余量的单体和光引发剂,其次是使版表面较不粘。
该版的评估揭示,可以观察到大体上基本圆形的网目点(见图2a)。在该版上完全不再可成像低网目(halftone)色调值。在47L/cm的网目(halftone)宽度下,最小成像的网目(halftone)色调值为4.3%。无法由该成像将表面网目(halftone)转移到版上,并仅粗略可见(见图2b)。
对比例2
可光聚合层: 可溶于有机冲洗介质
对于氧的阻隔层: -
可激光烧蚀掩模层: 水溶性
如下制造数字掩模层:
将100千克水与23千克Black A-SF混合并简短搅拌。然后加入40.0千克20%浓度97-5溶液(具有97摩尔%水解度的部分水解的聚环氧乙烷-聚乙酸乙烯酯接枝共聚物,溶剂组成为80%水/20%丙醇)并将该混合物搅拌5分钟。随后将这种混合物与29千克正丙醇混合,并再搅拌10分钟。最后作为流动控制助剂加入0.08千克FS-30并将该混合物以大约600转/分钟搅拌大约10分钟。此后,将反应溶液非常慢地进一步搅拌整夜。此后将该溶液在6.0m/min的速度下以145微米的湿厚度施加到100微米厚的PET膜上。
经由重力测量获得的掩模层的涂布重量为2.8克/平方米;使用TD904密度计测得的掩模层在UVA范围内的光学密度为4.1。
首先,从商业有机显影性柔版印刷元件(ACE 114;可光聚合层与对比例1相同,但存在的柔版印刷元件没有可数字成像的掩模层)上除去顶膜和薄释放层。随后使用层压机将所述薄膜元件与掩模层一起层压到可光聚合表面上。将层压辊的温度设定为110℃。将基膜、可光聚合层、掩模层和顶膜的组装件在65℃下进一步加热3小时。
该柔版印刷元件首先从反面预曝光10秒。除去顶膜。将已经过初步反向曝光的柔版印刷元件施加到IR激光器(CDI Spark 4835激光器,Esko)的转鼓上。如对比例1中那样测定曝光所需的激光能量。测得其为2.2J/cm2。然后使用该IR激光器将试验图形写入掩模层中。
成像的柔版印刷元件随后类似于对比实验1暴露在UVA辐射下14分钟。
冲洗在两个步骤中进行。
首先,在第一冲洗步骤中用水洗掉可激光烧蚀掩模层的残留物,并用压缩空气吹除仍附着的水。
随后,在第二冲洗步骤中,使用有机冲洗介质显影凸纹形成层(冲洗速度240mm/min,F Ill洗涤器)。所用冲洗介质是具有大约180至220℃的沸程的无芳族化合物的烃的技术混合物(D 60)。
此后如对比例1中所述加工该印刷版。该版的评估揭示,可以观察到大体上基本圆形的网目点。在该版上完全不再可成像低网目(halftone)色调值。在47L/cm的网目(halftone)宽度下,最小成像的网目(halftone)色调值为4.3%。无法由该成像将表面网目(halftone)转移到版上,并在表面上仍仅粗略可见。
本发明的实施例1
可光聚合层: 可溶于有机冲洗介质
对于氧的阻隔层: 水溶性
可激光烧蚀掩模层: 水溶性
如对比例2中所述获得水显影性掩模层并如所述施加到PET膜上。涂布重量为2.8克/平方米。使用TD 904密度计测得的在UVA范围内的光学密度为4.1。
如下获得水显影性阻隔层:
将3份部分水解的聚乙酸乙烯酯共聚物(72.5,水解度大约72摩尔%)在搅拌下添加到97份水和正丙醇的1:1溶剂混合物中。随后将所得分散体在回流下在80℃下加热2小时。此后将冷却到室温后的涂布溶液以33.7mm/s的速度和75微米的湿厚度刮刀涂布到100微米厚的PET膜上。经由重力测量获得的涂布重量为1.5克/平方米。
首先,从商业有机显影性柔版印刷元件(ACE 114)上除去顶膜和薄释放层。随后使用层压机将所述薄膜元件与阻隔层一起层压到可光聚合表面上。随后除去PET膜并将水显影性、可洗除的掩模层层压到该阻隔层上。将该组装件在65℃下加热3小时。
所得柔版印刷元件首先从反面预曝光10秒。除去顶膜。将已经过初步反向曝光的柔版印刷元件施加到IR激光器(CDI Spark 4835激光器,Esko)的转鼓上。如对比例1中那样测定曝光所需的激光能量。测得其为2.2J/cm2。然后使用该IR激光器将试验图形写入掩模层中。
成像的柔版印刷元件随后类似于对比实验1暴露在UVA辐射下14分钟。
冲洗在两个步骤中进行。
首先在第一冲洗步骤中用水洗掉可激光烧蚀掩模层的残留物以及氧阻隔层,并用压缩空气吹除仍附着的水。
随后,在第二冲洗步骤中,使用有机冲洗介质显影凸纹形成层(冲洗速度240mm/min,F Ill洗涤器)。所用冲洗介质如对比例2中那样是具有大约180至220℃的沸程的无芳族化合物的烃的技术混合物(D 60)。
此后如对比例1中所述加工该印刷版。该版的评估揭示,在该版上存在锐缘网目点(见图3a)。在该版上甚至可成像低网目(halftone)色调值。在47L/cm的网目(halftone)宽度下,最小稳定成像的网目(halftone)色调值为0.8%。由该成像可以将表面网目(halftone)以精确细节转移到版上(见图3b)。
本发明的实施例2
可光聚合层: 可溶于有机冲洗介质
对于氧的阻隔层: 水溶性
可激光烧蚀掩模层: 水溶性
如下制造水显影性掩模层:
将对比例2中所述的涂布溶液在6.8m/min的速度下以125微米的湿厚度施加到100微米厚的PET膜上。经由重力测量获得的涂布重量为2.0克/平方米;使用TD 904密度计测得的在UVA范围内的光学密度为3.5。
如本发明的实施例1中那样制造水显影性阻隔层。
经由重力测量获得的涂布重量为1.5克/平方米。
首先,从商业有机显影性柔版印刷元件(ACE 114)上除去顶膜和薄释放层。随后使用层压机将所述薄膜元件与阻隔层一起层压到可光聚合表面上。随后除去PET膜并将水显影性、可洗除的掩模层层压到该阻隔层上。将该组装件在65℃下加热3小时。
该柔版印刷元件首先从反面预曝光10秒。除去顶膜。将已经过初步反向曝光的柔版印刷元件施加到IR激光器(CDI Spark 4835激光器,Esko)的转鼓上。如对比例1中那样测定曝光所需的激光能量。测得其为1.7J/cm2。然后使用该IR激光器将试验图形写入掩模层中。
成像的柔版印刷元件随后类似于对比实验1暴露在UVA辐射下14分钟。
冲洗在两个步骤中进行。
首先,在第一冲洗步骤中用水洗掉可激光烧蚀掩模层的残留物以及氧阻隔层,并用压缩空气吹除仍附着的水。
随后,在第二冲洗步骤中,使用有机冲洗介质显影凸纹形成层(冲洗速度240mm/min,F Ill洗涤器)。所用冲洗介质如对比例2中那样是具有大约180至220℃的沸程的无芳族化合物的烃的技术混合物(D 60)。
此后如对比例1中所述加工该印刷版。该版的评估揭示,在该版上存在锐缘网目点。在该版上甚至可成像低网目(halftone)色调值。在47L/cm的网目(halftone)宽度下,最小稳定成像的网目(halftone)色调值为0.8%。由该成像可以将表面网目(halftone)以精确细节转移到版上(见图4)。
本发明的实施例3
可光聚合层: 可溶于有机冲洗介质
对于氧的阻隔层: 水溶性,含有填料
可激光烧蚀掩模层: 水溶性
如本发明的实施例2中那样制造水显影性掩模层。涂布重量为2.0克/平方米。使用TD 904密度计测得的在UVA范围内的光学密度为3.5。
以与本发明的实施例1相同的方式制造水显影性阻隔层。在加热溶液前,将该涂布溶液另外与0.2重量份(基于所用聚乙烯醇的量计)作为填料的细碎无机硅酸盐(ED30,平均粒度5.5微米)混合。这产生乳状分散体,其随后如本发明的实施例1中所述刮刀涂布到100微米厚的PET膜上。涂布重量为1.5克/平方米。
首先,从商业有机显影性柔版印刷元件(ACE 114)上除去顶膜和薄释放层。随后使用层压机将所述薄膜元件与阻隔层一起层压到可光聚合表面上。随后除去PET膜并将水显影性、可洗除的掩模层层压到该阻隔层上。将该组装件在65℃下加热3小时。
该柔版印刷元件首先从反面预曝光10秒。除去顶膜。将已经过初步反向曝光的柔版印刷元件施加到IR激光器(CDI Spark 4835激光器,Esko)的转鼓上。如对比例1中那样测定曝光所需的激光能量。测得其为1.7J/cm2。然后使用该IR激光器将试验图形写入掩模层中。
成像的柔版印刷元件随后类似于对比实验1暴露在UVA辐射下14分钟。
冲洗在两个步骤中进行。首先在第一冲洗步骤中用水洗掉可激光烧蚀掩模层的残留物以及氧阻隔层,并用压缩空气吹除仍附着的水。随后,在第二冲洗步骤中,使用有机冲洗介质显影凸纹形成层(冲洗速度240mm/min,F Ill洗涤器)。所用冲洗介质如对比例2中那样是具有大约180至220℃的沸程的无芳族化合物的烃的技术混合物(D 60)。此后如对比例1中所述加工该印刷版。
该版的评估揭示,在该版上存在锐缘网目点。在该版上甚至可成像低网目(halftone)色调值。在47L/cm的网目(halftone)宽度下,最小稳定成像的网目(halftone)色调值为0.8%。由该成像可以将表面网目(halftone)以精确细节转移到版上。此外,可以将阻隔层的表面的几何(见图5a)精确转移到版的表面上(见图5b)。
实验证实,本发明的柔版印刷元件具有高分辨率,能够成像超细表面结构,可以用低能量激光成像并可快速和容易加工以提供版。

Claims (18)

1.制造柔版印刷版的方法,其通过使用可数字成像的可光聚合柔版印刷元件作为原材料,所述可数字成像的可光聚合柔版印刷元件包含至少–以指定顺序彼此叠加布置的-
(A)尺寸稳定的载体,
(B)至少一个可光聚合的凸纹形成层,其可分散或可溶于有机溶剂并具有300微米至6000微米的层厚度,其包含至少一种弹性体粘合剂、烯键式不饱和单体和光引发剂或光引发剂体系,
(C)对于氧的阻隔层,其对UVA光为透过性的并具有0.3微米至5微米的层厚度,
(D)具有0.3微米至5微米的层厚度的可激光烧蚀掩模层,其包含至少一种弹性体粘合剂和吸收UV/VIS光的材料,层厚度和/或吸光材料的量使得所述层对UVA辐射的光学密度为2至5,和
(E)任选可移除顶膜,
其中阻隔层(C)和可激光烧蚀掩模层(D)都是水溶性或水分散性的,所述方法包含下列方法步骤:
(0)如果存在,除去顶膜(E),
(1)借助IR激光器将掩模写入可激光烧蚀掩模层(D)中,
(2)用UVA辐射通过形成的掩模曝光成像的柔版印刷元件,
(3)使用包含至少90重量%水的水性冲洗介质除去可激光烧蚀掩模层(D)的残留物和阻隔层(C),
(4)使用有机冲洗介质除去凸纹形成层(B)的未聚合部分,
(5)干燥所得柔版印刷版,和
(6)用UVA和/或UVC光进行后处理。
2.如权利要求1中所述的方法,其特征在于阻隔层(C)包含至少一种水溶性或水分散性粘合剂。
3.如权利要求2中所述的方法,其特征在于阻隔层(C)中的水溶性或水分散性粘合剂包含至少一种选自聚乙烯醇、部分水解和高度水解的聚乙酸乙烯酯、部分水解和高度水解的聚(环氧乙烷-乙酸乙烯酯)接枝共聚物、或水溶性聚(乙烯-乙烯醇)共聚物的粘合剂。
4.如权利要求2中所述的方法,其特征在于阻隔层(C)中的水溶性或水分散性粘合剂包含至少一种具有40摩尔%至90摩尔%的水解度的聚乙酸乙烯酯。
5.如权利要求1中所述的方法,其特征在于阻隔层(C)包含阻隔层(C)的所有组分的总量的5至20重量%的量的填料。
6.如权利要求1中所述的方法,其特征在于可激光烧蚀掩模层(D)中的弹性粘合剂包含选自部分水解或高度水解的聚乙烯基酯、部分水解的乙酸乙烯酯/环氧烷接枝共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、马来酸酐共聚物、乙酸乙烯酯和巴豆酸的共聚物、水溶性聚酯、水溶性聚醚、乙烯基吡咯烷酮的均聚物和共聚物、乙烯基己内酰胺、乙烯基咪唑、水溶性聚丙烯酰胺、水溶性聚氨酯或水溶性聚酰胺的至少一种。
7.如权利要求1中所述的方法,其特征在于可激光烧蚀掩模层(D)中的弹性粘合剂包含选自部分水解或高度水解的聚乙酸乙烯酯、部分水解或高度水解的乙酸乙烯酯-环氧烷接枝共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物或水溶性聚酰胺的至少一种。
8.如权利要求1中所述的方法,其特征在于可激光烧蚀掩模层(D)中的吸光材料包含选自细碎炭黑、石墨或炭黑纳米粒子的至少一种。
9.如权利要求1中所述的方法,其特征在于可激光烧蚀掩模层(D)中的吸光材料的量为可激光烧蚀掩模层的所有组分的量的10重量%至50重量%。
10.如权利要求1中所述的方法,其特征在于其是平坦柔版印刷元件。
11.如权利要求1中所述的方法,其特征在于其是筒形柔版印刷元件,条件是不存在顶膜(E)。
12.如权利要求1中所述的方法,其特征在于方法步骤(3)中的水性冲洗介质包含水。
13.如权利要求1中所述的方法,其特征在于阻隔层(C)和可激光烧蚀掩模层(D)中的粘合剂包含可生物降解的粘合剂。
14.如权利要求1中所述的方法,其特征在于在方法步骤(3)和(4)之间除去仍附着在柔版印刷元件上的水性冲洗介质的残留物。
15.如权利要求1中所述的方法,其特征在于方法步骤(4)中所用的有机冲洗介质包含具有至少150℃的沸点的非极性溶剂。
16.如权利要求1中所述的方法,其特征在于方法步骤(4)中所用的有机冲洗介质包含烃溶剂,其包含链烷烃和环烷烃并具有160至220℃的沸程。
17.如权利要求16中所述的方法,其特征在于所述冲洗介质仅含烃。
18.如权利要求1中所述的方法,其特征在于加工平坦柔版印刷元件,并且方法步骤(3)和(4)使用双区洗涤器实施以洗出已曝光、已数字成像的平坦柔版印刷元件,其包含
·使用水性冲洗介质运行的第一冲洗单元(W1),
·用于从所述柔版印刷元件中除去水性冲洗介质的残留物的中间干燥单元(Z)
·使用有机冲洗介质运行的第二冲洗单元(W2),和
·用于将已曝光的柔版印刷元件输送经过单元(W1)、(Z)和(W2)的输送装置(T)。
CN201480062739.3A 2013-09-18 2014-09-18 可数字曝光的柔版印刷元件和制造柔版印刷版的方法 Active CN105745578B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP13185009 2013-09-18
EP13185009.1 2013-09-18
PCT/EP2014/069853 WO2015040094A2 (de) 2013-09-18 2014-09-18 Digital bebilderbares flexodruckelement und verfahren zur herstellung von flexodruckplatten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105745578A CN105745578A (zh) 2016-07-06
CN105745578B true CN105745578B (zh) 2018-04-06

Family

ID=49209271

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201480062739.3A Active CN105745578B (zh) 2013-09-18 2014-09-18 可数字曝光的柔版印刷元件和制造柔版印刷版的方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9789679B2 (zh)
EP (1) EP3047336B1 (zh)
JP (1) JP6542202B2 (zh)
CN (1) CN105745578B (zh)
CA (1) CA2923703C (zh)
ES (1) ES2664762T3 (zh)
PL (1) PL3047336T3 (zh)
WO (1) WO2015040094A2 (zh)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6345772B2 (ja) 2013-06-14 2018-06-20 フリント、グループ、ジャーマニー、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング デジタル画像が形成可能であり、極性の極薄障壁層を有するフレキソ印刷素子
WO2016188981A1 (de) 2015-05-28 2016-12-01 Flint Group Germany Gmbh Digital bebilderbare flexodruckplatte mit integraler barriereschicht
US11106136B2 (en) * 2015-07-15 2021-08-31 Flint Group Germany Gmbh Laser-ablatable mask film
CN109073975B (zh) 2016-04-01 2022-02-08 旭化成株式会社 柔性印刷版用感光性树脂结构体、及柔性印刷版
US10843453B2 (en) 2016-10-10 2020-11-24 Akk Gmbh Composite panel with barrier layer and method for manufacturing a letterpress plate
US10457082B2 (en) * 2017-05-09 2019-10-29 Macdermid Graphics Solutions, Llc Flexographic printing plate with improved storage stability
PL3401732T3 (pl) 2017-05-11 2020-07-13 Folex Ag Płyta do druku fleksograficznego o wysokiej rozdzielczości i środki do jej wytwarzania
CN111512231B (zh) * 2017-10-10 2024-03-15 恩熙思德国有限公司 具有低程度的杯形挤压和槽纹的凸纹前体
EP3495890A1 (en) * 2017-12-08 2019-06-12 Flint Group Germany GmbH Apparatus and method for developing printing precursors
NL2022926B1 (en) * 2019-04-11 2020-10-20 Xeikon Prepress Nv Apparatus and method for treating a relief precursor with liquid
EP3794411B1 (en) * 2019-05-30 2022-05-18 Esko-Graphics Imaging GmbH Process and apparatus for automatic measurement of density of photopolymer printing plates
EP3797004B1 (en) 2019-06-05 2024-05-08 Esko-Graphics Imaging GmbH Systems and methods for combined radiation and functional layer application
EP3832389A1 (de) 2019-12-06 2021-06-09 Folex AG Hochauflösende flexodruckplatte und mittel zu deren herstellung mit verbesserter sperrschicht und haftungsmodulierende schicht
JPWO2022138714A1 (zh) * 2020-12-22 2022-06-30
CN114683675B (zh) * 2020-12-28 2023-11-14 乐凯华光印刷科技有限公司 一种表面自带纹理的平顶网点的柔性树脂版及其制版方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1156368A2 (en) * 2000-05-17 2001-11-21 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Multilayered photosensitive material for flexographic printing plate

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2820815C2 (de) * 1978-05-12 1983-09-29 Gebr. Schmid GmbH & Co, 7290 Freudenstadt Durchlaufmaschine zum Entfernen von Fotoresisten und/oder Siebdruckfarben von Trägern
US4722355A (en) * 1985-08-19 1988-02-02 Rolf Moe Machine and method for stripping photoresist from wafers
DE3807929A1 (de) 1988-03-10 1989-09-28 Basf Ag Verfahren zur herstellung von reliefformen
US5262275A (en) * 1992-08-07 1993-11-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate
US5719009A (en) * 1992-08-07 1998-02-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laser ablatable photosensitive elements utilized to make flexographic printing plates
DE69401355T2 (de) 1993-05-12 1997-06-26 Agfa Gevaert Nv Warmeempfindliches aufzeichnungsmaterial
EP1069475B1 (en) 1999-07-13 2002-09-18 BASF Drucksysteme GmbH Flexographic printing element comprising an IR-ablatable layer with high sensitivity
US6794107B2 (en) 2002-10-28 2004-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal generation of a mask for flexography
US8142987B2 (en) 2004-04-10 2012-03-27 Eastman Kodak Company Method of producing a relief image for printing
EP2145229B1 (en) 2007-05-08 2016-04-20 Esko-Graphics Imaging GmbH Exposing printing plates using light emitting diodes
US7799504B2 (en) * 2007-06-05 2010-09-21 Eastman Kodak Company Mask film to form relief images and method of use
DE102007063169A1 (de) * 2007-12-19 2009-06-25 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Verfahren und Anlage zum Bearbeiten bzw. Reinigen von Si-Blöcken
DE102007063202A1 (de) 2007-12-19 2009-06-25 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Silizium-Wafern
CN102016720B (zh) 2008-05-23 2013-01-09 东洋纺织株式会社 柔版印刷原版
US8227769B2 (en) 2008-05-27 2012-07-24 Esko-Graphics Imaging Gmbh Curing of photo-curable printing plates with flat tops or round tops
DE102009032217A1 (de) 2009-07-06 2011-01-13 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Substraten
US8158331B2 (en) * 2009-10-01 2012-04-17 Recchia David A Method of improving print performance in flexographic printing plates
DE102010031527A1 (de) 2010-07-19 2012-01-19 Flint Group Germany Gmbh Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen umfassend die Bestrahlung mit UV-LEDs
US8492074B2 (en) 2011-01-05 2013-07-23 Laurie A. Bryant Method of improving print performance in flexographic printing plates
US8652761B2 (en) * 2011-02-18 2014-02-18 David A. Recchia Photosensitive resin laminate and thermal processing of the same
US8551688B2 (en) * 2011-04-21 2013-10-08 Ryan W. Vest Photosensitive resin laminate and thermal processing of the same
WO2013099797A1 (ja) * 2011-12-27 2013-07-04 東洋紡株式会社 感光性印刷原版の現像方法及び現像装置
ES2638783T3 (es) 2013-07-15 2017-10-24 Flint Group Germany Gmbh Proceso para la fabricación de formas de impresión flexográfica

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1156368A2 (en) * 2000-05-17 2001-11-21 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Multilayered photosensitive material for flexographic printing plate

Also Published As

Publication number Publication date
US9789679B2 (en) 2017-10-17
US20160229172A1 (en) 2016-08-11
ES2664762T3 (es) 2018-04-23
JP2016532135A (ja) 2016-10-13
JP6542202B2 (ja) 2019-07-10
EP3047336A2 (de) 2016-07-27
CA2923703C (en) 2021-10-05
CN105745578A (zh) 2016-07-06
WO2015040094A3 (de) 2015-07-02
PL3047336T3 (pl) 2018-07-31
WO2015040094A2 (de) 2015-03-26
EP3047336B1 (de) 2018-01-10
CA2923703A1 (en) 2015-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105745578B (zh) 可数字曝光的柔版印刷元件和制造柔版印刷版的方法
JP4884776B2 (ja) 記録要素として使用される画像形成要素、および画像形成要素を使用する方法
US7816065B2 (en) Imageable printing plate for on-press development
JP2002357907A (ja) フレキソ印刷版の製造方法および該方法に使用する感光性要素
CN104742557B (zh) 一种可水显影免化学处理热敏版及其制备方法
US8137897B2 (en) Processless development of printing plate
CN1950749B (zh) 凸版印刷用感光性原稿印版及制作凸版印版的方法以及用于该方法的遮光墨
CN110520797A (zh) 含有低度官能化的部分皂化聚乙酸乙烯酯的可辐照固化的混合物
CN105452960B (zh) 可数字成像且具有极性超薄屏障层的柔版印刷元件
US8304162B2 (en) Processless printing plates
JP2008522203A (ja) フレキソ印刷版の製造方法及びこの目的に適したフレキソ印刷要素
US8377630B2 (en) On-press plate development without contamination of fountain fluid
US8343707B2 (en) Lithographic printing plate for in-solidus development on press
JP2005275032A (ja) 感光性平版印刷版
US8785109B2 (en) Method of developing a lithographic printing plate including post heating
JP2008233820A (ja) 平版印刷版用支持体、平版印刷版の製造方法および感光性平版印刷版材料
JP2008250195A (ja) 水現像可能な感光性平版印刷版材料
CN106575081A (zh) 可以快速干燥的柔性版印刷元件
US20150053103A1 (en) Method of Developing a Lithographic Printing Plate Including Post Treatment
US20120186473A1 (en) Lithographic Printing Plate Amenable To Post-Heating
JP2005275031A (ja) 感光性平版印刷版
JP2000267263A (ja) フレキソ印刷用感光性構成体
JP2008203702A (ja) 光重合性平版印刷版
JP2011079279A (ja) 平版印刷版用支持体および平版印刷版材料
JP2014191273A (ja) 感光性平版印刷版の製版方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP03 Change of name, title or address
CP03 Change of name, title or address

Address after: Wilstedt, Germany

Patentee after: ensis germany GmbH

Address before: Stuttgart, Germany

Patentee before: FLINT GROUP GERMANY GmbH