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CERN Accelerating science

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1.
65nm Device Characteristics Matching on Single and Batch System Ion Implanter / Okabe, Ken-ichi ; Miura, Ryuichi ; Kase, Masataka
2006 - Published in : AIP Conf. Proc.: 866 (2006) , pp. 645-648 External link: Published version from AIP
In : 16th International Conference on Ion Implantation Technology, Marseilles, France, 11 - 16 Jun 2006, pp.645-648

參見:相似的作者
16 Okabe, K
4 Okabe, Kota
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